特許
J-GLOBAL ID：200903032438820552

洗浄方法、洗浄装置

発明者：
森 宏幸

森 宏幸 について

, 
丹生谷 貴行

丹生谷 貴行 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (1件)： 須山 佐一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-163367
公開番号（公開出願番号）：特開2004-014642
出願日： 2002年06月04日
公開日（公表日）： 2004年01月15日
要約：
【課題】洗浄対象を効率的に洗浄できる洗浄装置、洗浄方法を提供する。【解決手段】多孔質材料を少なくとも一部に含む洗浄対象が設置された洗浄室内に流体を導入した後、流体を加圧および減圧する。多孔質材料は、その孔を通じて汚染物質が多孔質材料の内部に侵入することから、汚染物質の除去が困難である。多孔質材料の洗浄に際して洗浄に用いる流体を加圧および減圧することで、汚染物質を効率よく除去することが可能となる。加圧することで流体が多孔質材料の内部に浸透し、減圧することで多孔質材料の内部から流体が戻される。減圧の際に汚染物質が流体と共に多孔質材料内部から放出される。この結果、多孔質材料からの汚染物質の除去が効果的に行われる。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
多孔質材料を少なくとも一部に含む洗浄対象が設置された洗浄室内に流体を導入する導入ステップと、 前記洗浄室内に導入された前記流体を加圧する加圧ステップと、 前記加圧ステップで加圧された前記流体を減圧する減圧ステップと、 を具備することを特徴とする洗浄方法。
IPC (2件)：
H01L21/304 ,  B08B3/10
FI (2件)：
H01L21/304 641 ,  B08B3/10 Z
Fターム (15件)：
3B201AA02 ,  3B201AA03 ,  3B201AB42 ,  3B201BB02 ,  3B201BB82 ,  3B201BB87 ,  3B201BB90 ,  3B201BB92 ,  3B201BB93 ,  3B201BB95 ,  3B201BB96 ,  3B201CC01 ,  3B201CC12 ,  3B201CD11 ,  3B201CD22
引用特許：
審査官引用 (3件)

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