特許
J-GLOBAL ID:200903032467201535

水素吸蔵炭素材料の製造方法および水素吸蔵方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 斉藤 武彦 ,  畑 泰之
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-177519
公開番号(公開出願番号):特開2004-018973
出願日: 2002年06月18日
公開日(公表日): 2004年01月22日
要約:
【課題】高性能の水素吸蔵炭素材料の製造方法を提供する。【解決手段】ガス吸着法で測定した平均細孔直径が3.5〜100Åで、比表面積が400〜3500m2 /gである多孔質炭素材料の表面に、無電解メッキ法により、水素吸蔵金属または水素吸蔵合金を、該水素吸蔵金属または水素吸蔵合金の保持量が多孔質炭素材料に対して0.1〜50質量%となるように被覆する。【選択図】 なし
請求項(抜粋):
ガス吸着法で測定した平均細孔直径が3.5〜100Åで、比表面積が400〜3500m2 /gである多孔質炭素材料の表面に、無電解メッキ法により、水素吸蔵金属または水素吸蔵合金を、該水素吸蔵金属または水素吸蔵合金の保持量が多孔質炭素材料に対して0.1〜50質量%となるように被覆することを特徴とする水素吸蔵炭素材料の製造方法。
IPC (4件):
C23C18/31 ,  C01B3/00 ,  C01B31/02 ,  F17C11/00
FI (5件):
C23C18/31 A ,  C01B3/00 B ,  C01B31/02 101B ,  C01B31/02 101F ,  F17C11/00 C
Fターム (31件):
4G140AA34 ,  4G140AA43 ,  4G140AA48 ,  4G146AA11 ,  4G146AB06 ,  4G146AC04A ,  4G146AC05A ,  4G146AC06A ,  4G146AC07A ,  4G146AC08A ,  4G146AC09A ,  4G146AC10A ,  4G146AD11 ,  4G146AD15 ,  4G146AD32 ,  4G146CB23 ,  4G146CB34 ,  4K022AA04 ,  4K022AA36 ,  4K022AA37 ,  4K022AA41 ,  4K022BA01 ,  4K022BA08 ,  4K022BA17 ,  4K022BA31 ,  4K022BA32 ,  4K022CA18 ,  4K022CA21 ,  4K022DA01 ,  5H027AA02 ,  5H027BA14
引用特許:
審査官引用 (6件)
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