特許
J-GLOBAL ID：200903032574116958
リソグラフィ装置、デバイス製造方法、およびそれによって製造されるデバイス
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
浅村 皓 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-169284
公開番号（公開出願番号）：特開2003-045797
出願日： 2002年05月07日
公開日（公表日）： 2003年02月14日
要約：
【要約】【課題】 実質的にスループットを低減することなく、2つの異なるマスク露光を組み合わせることができるリソグラフィ投影装置および方法を提供すること。【解決手段】 第1の放射線投影ビームを提供するための第1の放射線システムと、第2の放射線投影ビームを提供するための第2の放射線システムと、第1のパターニング手段および第2のパターニング手段を支持するための支持構造体とを備えるリソグラフィ投影装置であって、第1のパターニング手段が第1のパターンに従って第1の投影ビームにパターンを付ける働きをし、第2のパターニング手段が第1のパターンに従って第2の投影ビームにパターンを付ける働きをし、さらに、基板を保持するための基板テーブルと、第1および第2のパターン付きビームを組み合わせて、組み合わせたビームを基板のターゲット部分に投影するための投影システムとを備えるリソグラフィ投影装置。
請求項（抜粋）：
放射線投影ビームを提供するための放射線システムと、所望のパターンに従って投影ビームにパターン付けするように作用するパターニング手段を支持するための支持構造体と、基板を保持するための基板テーブルと、パターン付けされた前記ビームを基板のターゲット部分に投影するための投影システムとを有するリソグラフィ投影装置において、該リソグラフィ投影装置が、補助放射線投影ビームを提供する手段をさらに有し、前記支持構造体が、補助パターニング手段をさらに支持し、該補助パターニング手段が、前記パターニング手段のパターンとは異なる補助パターンに従って補助投影ビームにパターン付けするように作用し、パターン付けされた両方の投影ビームが、互いに重なり合うレジストリで基板上に同時に投影されることを特徴とするリソグラフィ投影装置。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 501
, G03F 7/20 521
G03F 7/20 501
, G03F 7/20 521
, H01L 21/30 514 A
, H01L 21/30 515 F
2H097AA03
, 2H097CA12
, 2H097CA13
, 2H097LA10
, 5F046AA12
, 5F046BA04
, 5F046BA05
, 5F046CB10
, 5F046CB17
, 5F046CB25
, 5F046CC02
