特許
J-GLOBAL ID：200903032661048608
気体の清浄化方法及び装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
吉嶺 桂 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-010245
公開番号（公開出願番号）：特開平11-285623
出願日： 1999年01月19日
公開日（公表日）： 1999年10月19日
要約：
【要約】【課題】 基材及び基板表面の接触角を増大させる非メタン炭化水素を、効果的、かつ簡便に除去、又は接触角増加に関与しない物質に変換する気体の清浄化方法及び装置を提供する。【解決手段】 空間に収納した基材又は基板表面の汚染を防止する気体の清浄化装置において、基材又は基板2と接触する少なくとも炭化水素4を含む気体を通し、該気体中の非メタン炭化水素濃度を0.2ppm以下に清浄化する、空間容積1m3 当り50〜50000cm2 の表面積で設置された光触媒6と、該光触媒に0.01 〜10mW/cm2 の紫外線を照射する紫外線源5とを有する空間からなる装置であり、また、前記紫外線が、照射されている空間に、さらに該気体中の微粒子濃度をクラス10以下とする光電子放出材と電極とを設置することができ、該空間内には不活性ガスを封入できる。
請求項（抜粋）：
空間に収納した基材又は基板表面の汚染を防止するための気体を清浄化する方法において、基材又は基板と接触する少なくとも炭化水素を含む気体を、空間容積1m3 当り50〜50000cm2 の表面積で設置された光触媒に、0.01mW/cm2〜10mW/cm2 の紫外線が照射されている空間内に通し、該気体中の非メタン炭化水素濃度を0.2ppm以下に清浄化することを特徴とする気体の清浄化方法。
IPC (5件)：
B01D 53/86 ZAB
, B01D 53/86
, A61L 9/00
, B01J 35/02
, H01L 21/02
B01D 53/36 ZAB J
, A61L 9/00 C
, B01J 35/02 J
, H01L 21/02 D
, B01D 53/36 G
