特許

J-GLOBAL ID：200903032677242110

面形状計測用干渉計、波面収差測定機、前記干渉計及び前記波面収差測定機を用いた投影光学系の製造方法、及び前記干渉計の校正方法

発明者： 市原 裕
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-268582
公開番号（公開出願番号）：特開2000-097666
出願日： 1998年09月22日
公開日（公表日）： 2000年04月07日
要約：

【要約】【課題】優れた性能の投影光学系を製造すること【解決手段】投影原版上の回路パターンを感光性基板上へ投影する投影光学系の製造方法は、投影光学系を構成する光学素子の光学面に非球面形状の参照面を近接させた状態にすると共にこの光学面と参照面とを一体にした状態で、前記光学面及び前記参照面からの光を干渉させることにより前記光学面の形状を測定する面形状測定工程と;光学素子を組上げて波面収差を測定する波面収差測定工程と;測定された波面収差に関する情報と前記測定された光学面の形状に関する情報とに基づいて、前記光学面の形状を修正すべき量を求める面修正量算出工程と;求められた量に基づいて前記光学面の形状を修正する修正工程と;を含む。

請求項（抜粋）：

投影原版上の回路パターンを感光性基板上へ投影する投影光学系の製造方法において、前記投影光学系を構成する光学素子の光学面に非球面形状の参照面を近接させた状態にすると共に該光学面と参照面とを一体にした状態で、前記光学面及び前記参照面からの光を干渉させることにより前記光学面の形状を測定する面形状測定工程と;前記光学素子を組上げて波面収差を測定する波面収差測定工程と;前記測定された波面収差に関する情報と前記測定された光学面の形状に関する情報とに基づいて、前記光学面の形状を修正すべき量を求める面修正量算出工程と;該求められた量に基づいて前記光学面の形状を修正する修正工程と;を含むことを特徴とする製造方法。

IPC (5件)：

G01B 11/24 ,  G01B 9/02 ,  G01D 3/00 ,  G01M 11/00 ,  H01L 21/027

FI (6件)：

G01B 11/24 D ,  G01B 11/24 M ,  G01B 9/02 ,  G01D 3/00 C ,  G01M 11/00 Z ,  H01L 21/30 515 D

Fターム (39件)：

2F064AA09 ,  2F064BB05 ,  2F064EE05 ,  2F064EE08 ,  2F064FF01 ,  2F064FF03 ,  2F064GG20 ,  2F064GG22 ,  2F064GG34 ,  2F064HH03 ,  2F064HH08 ,  2F064JJ01 ,  2F064LL13 ,  2F065AA00 ,  2F065AA46 ,  2F065CC21 ,  2F065FF48 ,  2F065FF53 ,  2F065GG04 ,  2F065HH03 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ26 ,  2F065LL00 ,  2F065LL04 ,  2F065LL28 ,  2F065LL34 ,  2F065LL42 ,  2F075AA03 ,  2F075AA04 ,  2F075BB00 ,  5F046DA12 ,  5F046DB05 ,  5F046DB11 ,  5F046GA03 ,  5F046GA14 ,  5F046GB01 ,  5F046GB09 ,  5F046GC03 ,  5F046GC04

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 投影光学系の製造方法、投影露光装置および半導体装置の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-211059   出願人：株式会社ニコン
• 被測定物の面形状測定方法およびその装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-346210   出願人：旭光学工業株式会社
• 露光方法及び露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-318163   出願人：株式会社日立製作所