成膜処理室への液体材料供給装置、その使用方法及びその配管構造

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：浅井章弘 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-170082
公開番号（公開出願番号）：特開平8-017749
出願日： 1994年06月29日
公開日（公表日）： 1996年01月19日
要約：

【要約】【目的】成膜用の低蒸気圧液体材料を安定的に且つ精度良く供給することができる液体材料供給装置を提供する。【構成】成膜処理室30へ低蒸気圧液体材料Lを供給する装置において、貯留槽4内の低蒸気圧液体材料を加圧用通路10からの加圧気体により加圧液体供給通路24へ押し出し、これを流量制御部6で流量制御しつつ気化器8へ供給して気化させ、気化されたガスを再液化防止用の加熱手段68を設けたガス供給通路34を介して成膜処理室へ供給する。これにより、液体材料を安定的に且つ精度良く供給する。

請求項（抜粋）：

被処理体に成膜処理を施す成膜処理室に成膜用の低蒸気圧液体材料を供給する液体材料供給装置において、前記低蒸気圧液体材料を貯める貯留槽と、前記低蒸気圧液体材料を流速の速い気体に晒して気化する気化器と、前記貯留槽に接続されて加圧気体により前記低蒸気圧液体材料を押し出す加圧用通路と、前記貯留槽と前記気化部とを接続する加圧液体供給通路と、この加圧液体供給通路に介設されてこれに流れる低蒸気圧液体材料の流量を制御する流量制御部と、前記気化器と前記成膜処理室とを接続して気化されたガスを流すガス供給通路と、このガス供給通路に設けられて気化されたガスの再液化を阻止する加熱手段とを備えたことを特徴とする成膜処理室への液体材料供給装置。

IPC (2件)：

H01L 21/205 , H01L 21/203

引用特許：

審査官引用 (6件)

液体蒸気原料の供給装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-159099 出願人：松下電器産業株式会社
特開平1-215793
特開平3-030829

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