インプロセス膜厚モニター装置及び方法

発明者： , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：池内寛幸 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-259087
公開番号（公開出願番号）：特開平9-013171
出願日： 1995年10月05日
公開日（公表日）： 1997年01月14日
要約：

【要約】【課題】適用可能な製膜レートの範囲が広く、スパッタリングのように飛散粒子の特性波長と同じ波長の光が大量に発生している雰囲気の中でも高精度の連続モニターを可能にする。【解決手段】製膜装置6内の飛散粒子の特性波長を含む光源1から出た光束9は、チョッピング手段18によって所定の周期で断続されたのち光分割手段17によって探査光束14と参照光束15とに分割される。探査光束14は粒子飛散領域13を通過した後、光フィルタ2aを経て光検出器3aに入り、探査光強度信号23が出力される。参照光束からも同様にして参照光強度信号が得られる。データ処理手段20が、両光強度信号の位相検出及びレベル検出を行うことにより、飛散粒子による吸光度、即ち製膜レートを推定し、これを時間積分することにより製膜厚を推定する。

請求項（抜粋）：

製膜装置内の飛散粒子の特性波長を含む光源と、その光源から出た光束を粒子飛散領域を通過する探査光束と通過しない参照光束とに分割する光分割手段と、粒子飛散領域通過後の探査光束と前記参照光束との光強度を測定する光検出器と、前記光検出器に前記特性波長成分の光のみを入射させるための光フィルタと、前記光検出器から出力される探査光強度信号と参照光強度信号とに基づいて前記製膜装置内の飛散粒子による吸光度を算出し、この吸光度から製膜レートを推定するデータ処理手段とを備えているインプロセス膜厚モニター装置。

引用特許：

出願人引用 (9件)

特公昭50-032640
特開平3-240962
光電式成膜モニター装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-108769 出願人：シチズン時計株式会社

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