特許
J-GLOBAL ID：200903032806315782

カラーフィルタの製造方法

発明者：
藤井 幸男

藤井 幸男 について


出願人/特許権者：
新エスティーアイ テクノロジー株式会社

新エスティーアイ テクノロジー株式会社 について


代理人 (3件)： 長谷川 芳樹 ,  寺崎 史朗 ,  三上 敬史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-185589
公開番号（公開出願番号）：特開2006-010876
出願日： 2004年06月23日
公開日（公表日）： 2006年01月12日
要約：
【課題】 低コストでかつ簡易にカラーフィルタを得ることのできるカラーフィルタの製造方法を提供する。【解決手段】 遮光層及び基板の露出部分に下式(1)の光分解性化合物を含む表面処理剤を塗布する工程を含むものである。 上式(1)中、R1は炭素数1〜15の炭化水素基又は水素原子、Xは-Cl、-Br、-I、-OR3、-OR3、-NCO又は-NH2からなる群から選択されるいずれか、R3は炭素数1〜15の炭化水素基又は水素原子、nは0〜2のいずれかの整数、MはSi、Ti、Zrからなる群から選択されるいずれかの元素、R2は置換基を有してもよい炭素数1〜15の2価の炭化水素基、Yは-COO-又は-O-のいずれか、Zは式(2)又は式(3)の置換基である。 式(2)、(3)中、R4は炭素数1〜15のアルキル基又は水素原子である。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
透明な基板の一方の面上に、前記基板の一部を露出させると共に光を遮る遮光層を形成する工程と、 前記遮光層及び前記基板の露出された部分に下記一般式(1)で表される光分解性化合物を含む表面処理剤を塗布する工程と、 前記基板の他方の面から光を照射して前記基板の露出された部分に塗布された表面処理剤を光反応させる工程と、 前記基板の露出された部分にインクを充填する工程と、 を含むカラーフィルタの製造方法。
IPC (2件)：
G02B 5/20 ,  G02F 1/133
FI (2件)：
G02B5/20 101 ,  G02F1/1335 505
Fターム (19件)：
2H048BA02 ,  2H048BA11 ,  2H048BA55 ,  2H048BA57 ,  2H048BA60 ,  2H048BA64 ,  2H048BB02 ,  2H048BB24 ,  2H048BB42 ,  2H091FA02X ,  2H091FA02Y ,  2H091FA02Z ,  2H091FA34Y ,  2H091FB02 ,  2H091FB06 ,  2H091FC01 ,  2H091FC26 ,  2H091LA12 ,  2H091LA15
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (5件)
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