パターン形成方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：鈴江武彦 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-107440
公開番号（公開出願番号）：特開平9-292719
出願日： 1996年04月26日
公開日（公表日）： 1997年11月11日
要約：

【要約】【課題】本発明は化学増幅型レジストのコントラストを向上させ、良好な形状、かつ安定したレジスト感度を有するレジストパターンを得る。【解決手段】レジスト表面に所望の難溶化層を形成した後に現像を行う。

請求項（抜粋）：

被加工基板上に、化学増幅型ポジレジストを塗布し、レジスト層を形成する工程と、該レジスト層にパターンを露光する工程と、該露光されたレジスト層を加熱処理する工程と、該加熱処理されたレジスト層を現像する工程とを含むパターン形成方法において、前記レジスト層形成工程後から前記加熱処理工程前の間に、前記レジスト層表面上に表面難溶化層を形成する工程を含むことを特徴とするパターン形成方法。

IPC (3件)：

G03F 7/38 511 , G03F 7/38 512 , H01L 21/027

FI (4件)：

G03F 7/38 511 , G03F 7/38 512 , H01L 21/30 565 , H01L 21/30 568

引用特許：

審査官引用 (5件)

特開平1-092741
特開昭62-165650
レジストパターンの形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-236890 出願人：大日本印刷株式会社

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