特許
J-GLOBAL ID：200903032843424249
平面型光導波路の製造方法、平面型光導波路、光電気複合配線基板
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
志賀 正武
, 高橋 詔男
, 渡邊 隆
, 青山 正和
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-348231
公開番号（公開出願番号）：特開2005-114971
出願日： 2003年10月07日
公開日（公表日）： 2005年04月28日
要約：
【課題】 製造が容易で、様々な材料を適用可能な平面型光導波路の製造方法、およびこれによって製造された平面型光導波路、この平面型光導波路を備える光電気複合配線基板を提供する。【解決手段】 基板11上に下部クラッド層12を形成する工程Aと、基板11上に設けられた下部クラッド層12の上面12aにフォトリソグラフィによりコアのネガのコアパターン13を形成する工程Bと、その開口部13a内にコア材料14を充填し、これを硬化させる工程Cと、コア材料14を硬化させた後、ネガのコアパターン13を除去する工程Dとを少なくとも有する平面型光導波路の製造方法とする。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
基板上に下部クラッド層を形成する工程Aと、前記基板上に設けられた前記下部クラッド層の上面にフォトリソグラフィによりネガのコアパターンを形成する工程Bと、該ネガのコアパターンの開口部内にコアをなす材料を充填し、該コアをなす材料を硬化させる工程Cと、前記コアをなす材料を硬化させた後、前記ネガのコアパターンを除去する工程Dとを少なくとも有することを特徴とする平面型光導波路の製造方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (11件)：
2H047KA04
, 2H047KA15
, 2H047KB09
, 2H047LA09
, 2H047MA07
, 2H047PA02
, 2H047PA21
, 2H047PA24
, 2H047PA28
, 2H047QA05
, 2H047TA41
