特許
J-GLOBAL ID：200903079019721834
高分子光導波路の製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
西教 圭一郎 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-344167
公開番号（公開出願番号）：特開2002-031732
出願日： 2000年11月10日
公開日（公表日）： 2002年01月31日
要約：
【要約】【課題】 低損失で高信頼な高分子光導波路を安価で簡便に量産するために用いるコア形状複製用の金型を用いた光導波路製造方法を提供する。【解決手段】 光導波路のコア部となる凹凸形状が形成されている金型上に、溶融状態または溶液状態の高分子を塗布し、該高分子を紫外線あるいは熱によって硬化させたのち、液体に浸漬し、金型を剥離することにより得られた凹凸転写の高分子樹脂を下部クラッドとする。こうした製造方法により、原版と高分子とが容易に剥離でき、種々の膜厚を持つ高分子光導波路が量産可能となる。
請求項（抜粋）：
第1の高分子からなるクラッド層と、第1の高分子の表面に設けられた凹部に形成され、第2の高分子からなるコア部とを少なくとも備えた高分子光導波路の製造方法において、コア部を形成するための断面凸形状が形成されている原版上に、溶融状態または溶液状態の第1の高分子を塗布し、該第1の高分子を紫外線あるいは熱によって硬化させた後、該第1の高分子を原版から剥離させることにより表面に転写された凹部を備えた前記クラッド層を得る工程を含むことを特徴とする高分子光導波路の製造方法。
Fターム (9件)：
2H047KA04
, 2H047PA00
, 2H047PA02
, 2H047PA21
, 2H047PA24
, 2H047PA28
, 2H047QA05
, 2H047QA07
, 2H047TA43
