特許

J-GLOBAL ID：200903032844238163

低反射性基体及びそれを用いた太陽電池モジュール並びに低反射性基体の製造方法。

発明者： 原田 尚志 ,  緒方 四郎 ,  松井 義光
出願人/特許権者： シャープ株式会社 ,  サスティナブル・テクノロジー株式会社
代理人 (6件)： 志賀 正武 ,  高橋 詔男 ,  渡邊 隆 ,  鈴木 三義 ,  西 和哉 ,  村山 靖彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-056201
公開番号（公開出願番号）：特開2009-212435
出願日： 2008年03月06日
公開日（公表日）： 2009年09月17日
要約：

【課題】反射率が低下して光学特性が向上した基体を提供すること【解決手段】熱分解性有機化合物、有機ケイ素化合物及び/又は無機ケイ素化合物、並びに、銅及びジルコニウム含有アモルファス型過酸化チタン及びアナターゼ型過酸化チタンの混合物を含む反射率低減剤を基体の表面に塗布し、これを加熱して当該基体を低反射性とする【選択図】なし

請求項（抜粋）：

銅及びジルコニウム含有アナターゼ型酸化チタン、並びに、ケイ素化合物を含み、平均厚さ50nm〜300nm、最大高さ30nm以下の反射率低減多孔質膜を表面に備える低反射性基体であって、 前記アナターゼ型酸化チタンが、アモルファス型酸化チタンを加熱して得られたアナターゼ型酸化チタンと、アモルファス型酸化チタンを加熱して得られたものではないアナターゼ型酸化チタンの混合物からなることを特徴とする低反射性基体。

IPC (1件)：

H01L 31/04

FI (1件)：

H01L31/04 F

Fターム (5件)：

5F051BA16 ,  5F051GA03 ,  5F051GA16 ,  5F051HA03 ,  5F051HA07

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 太陽電池用表面保護材
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-364891   出願人：日東電工株式会社
• 特開昭50-70040号公報
  

審査官引用 (1件)

• 防汚皮膜及びその形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-301167   出願人：三菱重工業株式会社

引用文献：

審査官引用 (1件)

• 「太陽電池の発電効率を向上させる微細凹凸チタニア膜形成技術」