特許
J-GLOBAL ID：200903032870896349
レーザエッチング装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
石川 新
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-145660
公開番号（公開出願番号）：特開平9-327782
出願日： 1996年06月07日
公開日（公表日）： 1997年12月22日
要約：
【要約】【課題】 レーザ光が重複照射されるエッチングラインの継ぎ目部分のエッチング深さが他の部分と均一になる装置を実現する。【解決手段】 位置決め装置7に搭載された試料6に第1のレンズ2とマスク3と第2のレンズ5を介してパルス発振レーザ装置1がレーザ光を照射し、上記位置決め装置7の移動とパルス発振レーザ装置1の出力するレーザ光の発振周波数を演算制御器8が制御し、上記試料6面に一部重複したレーザ光の照射をくり返えしてエッチングラインを形成するレーザエッチング装置において、上記マスク3の長方形状の開口部のエッチングラインの方向と同一方向の長手方向の両端部が通過するレーザ光の光強度をその外側に向かうに従い漸減させるように形成されたことによって、レーザ光の1回照射部分と2回照射部分の照射エネルギを等しくすることができ、均一な深さのエッチングラインの形成が可能となる。
請求項（抜粋）：
エッチング加工が施される試料が搭載され演算制御器により制御されて間欠的に所定の移動を行う位置決め装置と、上記演算制御器により発振周波数が制御されるパルス発振レーザ装置が発生するレーザ光を入射して拡大する第1のレンズと、同レンズより拡大されたレーザ光を入射し長方形状の開口部が設けられてこれを通過させるマスクと、同マスクを通過したレーザ光を入射して集光し試料面にその断面が長方形状でその長手方向がエッチングラインの方向のレーザ光を一部重複して間欠的に照射する第2のレンズを備えたレーザエッチング装置において、上記マスクの開口部の長手方向の両端部が通過するレーザ光の光強度をその外側に向かうに従い漸減させるように形成されたことを特徴とするレーザエッチング装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
B23K 26/06 E
, B23K 26/00 M
