電子顕微鏡

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：大胡典夫 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-097452
公開番号（公開出願番号）：特開2002-298774
出願日： 2001年03月29日
公開日（公表日）： 2002年10月11日
要約：

【要約】【課題】試料の加工に伴う煩雑な作業を簡易化して、正確な試料の評価を行うことが可能な電子顕微鏡の提供。【解決手段】試料4表面に入射電子線1を走査する電子線走査装置3と、試料4を透過した入射電子線1の透過電子線10の強度、散乱電子線5の強度、あるいは入射電子線1に照射されて試料4から励起される特性X線14の強度を測定する検出装置13、7あるいは15と、透過電子線10の強度、散乱電子線5の強度あるいは特性X線14の強度を画像情報に変換する情報処理装置8とを有する電子顕微鏡において、試料4表面の一部に選択的にイオンビーム19を照射して、試料4表面を加工する加工装置と、前記画像情報から得られた試料4表面の凸部に、イオンビームを選択的に照射させるイオンビーム発生装置の制御部17とを有する。

請求項（抜粋）：

試料表面に入射電子線を走査する電子線走査装置と、前記試料を透過した前記入射電子線の透過電子線の強度、散乱電子線の強度、および前記入射電子線に照射されて前記試料から励起される特性X線の強度のいずれかを測定する検出装置と、前記透過電子線の強度、前記散乱電子線の強度、および前記特性X線の強度のいずれかを画像情報に変換する情報処理装置とを有する電子顕微鏡において、前記試料表面の一部に選択的にイオンビームを照射して、前記試料表面を加工する加工装置と、前記画像情報から得られた前記試料表面の凸部に、前記イオンビームを選択的に照射させる制御部とを有することを特徴とする電子顕微鏡。

IPC (7件)：

H01J 37/28 , G01N 1/28 , G01N 1/32 , G01N 23/04 , G01N 23/225 , H01J 37/252 , H01J 37/305

FI (7件)：

H01J 37/28 C , G01N 1/32 B , G01N 23/04 , G01N 23/225 , H01J 37/252 A , H01J 37/305 A , G01N 1/28 G

Fターム (29件)：

2G001AA03 , 2G001BA05 , 2G001BA11 , 2G001BA12 , 2G001BA14 , 2G001CA01 , 2G001DA02 , 2G001DA06 , 2G001EA03 , 2G001GA06 , 2G001KA11 , 2G001RA04 , 2G001RA10 , 2G001RA20 , 2G052EC14 , 2G052EC18 , 2G052GA34 , 5C033PP02 , 5C033PP04 , 5C033PP06 , 5C033SS02 , 5C033SS04 , 5C033SS06 , 5C033SS07 , 5C033SS10 , 5C034BB04 , 5C034BB07 , 5C034BB09 , 5C034BB10

引用特許：

審査官引用 (6件)

試料作成方法及びその装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-132241 出願人：株式会社日立製作所
イオンビーム加工装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-346438 出願人：菱電セミコンダクタシステムエンジニアリング株式会社, 三菱電機株式会社
ガスクラスターイオンビームによる超精密研磨加工方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-262910 出願人：新技術事業団, 安達新産業株式会社

全件表示

前のページに戻る