特許
J-GLOBAL ID：200903032905001510

塗布装置

発明者：
佐藤 和治

佐藤 和治 について

, 
清水 恒芳

清水 恒芳 について

, 
豊島 広宣

豊島 広宣 について


出願人/特許権者：
株式会社 日立インダストリイズ

株式会社 日立インダストリイズ について


代理人 (2件)： 作田 康夫 ,  井上 学
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-341391
公開番号（公開出願番号）：特開2006-150640
出願日： 2004年11月26日
公開日（公表日）： 2006年06月15日
要約：
【課題】 塗布ヘッド本体の射出口面とその周縁部表面を直接触れること無く、付着している材料や異物を常に安定した作用で除去するクリーニング装置を提供する。 【解決手段】 クリーニング機構部は塗布ヘッド本体内部に材料を充填するための充填機構部と、前記塗布ヘッド本体の射出口面とその周縁部表面に付着する材料や異物を吸引除去し清掃するための面清掃機構部とからなる。面清掃機構部は塗布ヘッド射出口面とその周縁部を異なる吸引溝で清掃する。 【選択図】 図3
請求項（抜粋）：
テーブル面上に載置された基板上に塗布液を塗布するため、塗布液を射出する複数の射出口を備え、前記射出口毎に射出圧を発生する駆動機構を備えた塗布ヘッドと、前記塗布ヘッド側に塗布ヘッド内部を洗浄する洗浄剤を供給する洗浄剤供給機構部を設け、前記塗布ヘッドの内部と射出口面とその周縁部を清掃するためのクリーニング機構部を前記テーブル側に備え、前記クリーニング機構部が、前記塗布ヘッド本体の内部に材料を充填するための充填機構部と、前記塗布ヘッド本体の射出口面とその周縁部表面に付着した塗布液や異物を除去するための面清掃機構部とからなることを特徴とする塗布装置。
IPC (5件)：
B41J 2/165 ,  B05C 5/00 ,  B05C 11/10 ,  B41J 2/18 ,  B41J 2/185
FI (4件)：
B41J3/04 102H ,  B05C5/00 101 ,  B05C11/10 ,  B41J3/04 102R
Fターム (33件)：
2C056EA14 ,  2C056EA16 ,  2C056EA21 ,  2C056EA27 ,  2C056EB23 ,  2C056EB24 ,  2C056EB36 ,  2C056EC07 ,  2C056EC22 ,  2C056EC23 ,  2C056EC33 ,  2C056EC35 ,  2C056JA06 ,  2C056JA09 ,  2C056JA13 ,  2C056JB03 ,  2C056JB04 ,  2C056JC13 ,  2C056JC20 ,  4F041AA02 ,  4F041AA05 ,  4F041AB01 ,  4F041BA10 ,  4F041BA13 ,  4F041BA22 ,  4F041BA34 ,  4F041BA38 ,  4F041BA60 ,  4F042AA02 ,  4F042AA06 ,  4F042AB00 ,  4F042CC08 ,  4F042CC10
引用特許：
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (4件)
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