特許

J-GLOBAL ID：200903032944747758

スライム防止方法

発明者： 木幡 賢二 ,  飯村 晶
出願人/特許権者： 栗田工業株式会社
代理人 (1件)： 内山 充
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-133520
公開番号（公開出願番号）：特開2001-310187
出願日： 2000年05月02日
公開日（公表日）： 2001年11月06日
要約：

【要約】【課題】水中の塩化物イオンの電解により酸化剤を安定的に発生させて微生物の増殖を防止し、簡便かつ安全にスライムの付着を防止することができるスライム防止方法を提供する。【解決手段】冷却水中に浸漬した電極に電圧を印加し、水中の塩化物イオンから酸化剤を発生させるスライム防止方法において、冷却水にスケール防止剤を添加することを特徴とするスライム防止方法。

請求項（抜粋）：

冷却水中に浸漬した電極に電圧を印加し、水中の塩化物イオンから酸化剤を発生させるスライム防止方法において、冷却水にスケール防止剤を添加することを特徴とするスライム防止方法。

IPC (12件)：

C02F 1/46 ,  C02F 1/461 ,  C02F 1/50 510 ,  C02F 1/50 531 ,  C02F 1/50 560 ,  C02F 5/00 610 ,  C02F 5/00 ,  C02F 5/00 620 ,  C02F 5/10 620 ,  C02F 5/10 ,  C02F 5/14 ,  F28F 19/01

FI (20件)：

C02F 1/46 Z ,  C02F 1/50 510 C ,  C02F 1/50 531 M ,  C02F 1/50 560 F ,  C02F 5/00 610 B ,  C02F 5/00 610 F ,  C02F 5/00 620 B ,  C02F 5/10 620 A ,  C02F 5/10 620 B ,  C02F 5/10 620 C ,  C02F 5/10 620 D ,  C02F 5/10 620 E ,  C02F 5/10 620 F ,  C02F 5/10 620 Z ,  C02F 5/14 B ,  C02F 5/14 C ,  C02F 5/14 D ,  C02F 5/14 E ,  C02F 1/46 101 A ,  F28F 19/00 501 B

Fターム (15件)：

4D061DA03 ,  4D061DA05 ,  4D061DB02 ,  4D061DB03 ,  4D061DB05 ,  4D061DB07 ,  4D061DB10 ,  4D061EA03 ,  4D061EB04 ,  4D061EB14 ,  4D061EB19 ,  4D061EB28 ,  4D061EB30 ,  4D061ED20 ,  4D061GC12

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 用水の浄化方法及び浄化装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-233739   出願人：株式会社テー・アール・ピー
• 被処理水の電気化学的処理方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-128358   出願人：コニカ株式会社, オルガノ株式会社
• 電気式脱イオン水製造装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-168663   出願人：オルガノ株式会社