特許
J-GLOBAL ID：200903032983893575
光学素子光洗浄方法および投影露光装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
永井 冬紀
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-027301
公開番号（公開出願番号）：特開平11-233402
出願日： 1998年02月09日
公開日（公表日）： 1999年08月27日
要約：
【要約】【課題】光学素子の感光基板側の面に付着する汚染物質を光洗浄する。【解決手段】露光用レーザ光源1から出射されたレーザ光の分岐光は逆発光系21から投影光学系PLに入射する。この逆発光光によって投影光学系PLの複数の光学系のウエハ側の面が光洗浄される。
請求項（抜粋）：
所定のパターンが形成された原版を露光光で照明し、照明された前記パターンの像を感光性基板に投影する光学素子を備えた投影露光装置の光学素子光洗浄方法において、前記露光光の進行方向と反対の方向から入射する洗浄光で前記光学素子を光洗浄することを特徴とする光学素子光洗浄方法。
IPC (2件)：
FI (3件)：
H01L 21/30 503 Z
, B08B 7/00
, H01L 21/30 503 G
