露光装置及びデバイス製造方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：丸島儀一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-269973
公開番号（公開出願番号）：特開平10-116766
出願日： 1996年10月11日
公開日（公表日）： 1998年05月06日
要約：

【要約】【課題】被露光基板を正しい露光量で露光すること。【解決手段】エキシマレーザー1からのレーザー光を、実際の露光動作とは別に、適宜、レンズ7と投影光学系8とに所定量照射することにより、レンズ7と投影光学系8の透過率をほぼ一定に維持しておく。

請求項（抜粋）：

照明光学系によりマスクを照明し、前記マスクのパターンに応じて基板を露光する露光装置において、前記照明光学系の一部又は全部の透過率をほぼ一定に維持する透過率維持手段を有することを特徴とする露光装置。

FI (2件)：

H01L 21/30 515 B , H01L 21/30 515 D

引用特許：

審査官引用 (8件)

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