特許

J-GLOBAL ID：200903032989041783

マスク位置合せ機構付き成膜装置

発明者： 小田木 秀幸
出願人/特許権者： 株式会社アルバック
代理人 (1件)： 北村 欣一 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-115146
公開番号（公開出願番号）：特開2003-306761
出願日： 2002年04月17日
公開日（公表日）： 2003年10月31日
要約：

【要約】【課題】マスクの位置合せに際し、CCDカメラによる基板及びマスクの直接読み取りを可能として、高精度での位置合せを行うことができるマスク位置合せ機構付き成膜装置を提供する。【解決手段】蒸着源19a、19bと、各蒸着源19a、19bにマスク15a、15bをそれぞれ介して対向する成膜位置に基板11の搬送を行うスイングアーム9と、回転軸回りに基板11を回転させる歯車6と、基板11に対するマスク15a、15bの位置合せ機構とを備える成膜装置において、マスク位置合せ機構は、成膜位置の略直上に設置したCCDカメラ17a、17b及び18a、18bを用いたCCDアライメント機構とする。

請求項（抜粋）：

複数の蒸着源と、前記各蒸着源にマスクを介して対向する成膜位置に基板搬送を行う基板搬送機構と、回転軸回りに基板を回転する基板回転機構と、前記基板に対する前記マスクの位置合せ機構とを備える成膜装置において、前記マスク位置合せ機構は、前記成膜位置の略直上に設置したCCDカメラを用いたCCDアライメント機構から成ることを特徴とするマスク位置合せ機構付き成膜装置。

IPC (2件)：

C23C 14/04 ,  H01L 21/68

FI (2件)：

C23C 14/04 A ,  H01L 21/68 F

Fターム (37件)：

4K029DB14 ,  4K029HA03 ,  4K029HA04 ,  4K029JA02 ,  5F031CA05 ,  5F031CA07 ,  5F031FA02 ,  5F031FA04 ,  5F031FA07 ,  5F031FA09 ,  5F031FA12 ,  5F031FA14 ,  5F031FA20 ,  5F031GA06 ,  5F031GA42 ,  5F031GA46 ,  5F031GA47 ,  5F031GA60 ,  5F031HA09 ,  5F031HA12 ,  5F031HA42 ,  5F031HA46 ,  5F031HA53 ,  5F031HA57 ,  5F031JA04 ,  5F031JA14 ,  5F031JA15 ,  5F031JA17 ,  5F031JA27 ,  5F031JA38 ,  5F031KA08 ,  5F031KA10 ,  5F031LA09 ,  5F031LA14 ,  5F031MA13 ,  5F031MA29 ,  5F031NA07

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 有機薄膜ELデバイス及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-115377   出願人：日本電気株式会社
• 特許第2832836号
  
• 電磁石を用いた有機電界発光素子製作用蒸着装置及びこれを用いた蒸着方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-201815   出願人：エイエヌエスインコーポレイテッド