特許
J-GLOBAL ID：200903033062623480
描画データの作成方法及び荷電粒子ビーム描画装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
松山 允之
, 池上 徹真
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-222645
公開番号（公開出願番号）：特開2009-054944
出願日： 2007年08月29日
公開日（公表日）： 2009年03月12日
要約：
【目的】マルチカラム方式の装置で使用可能に領域分割された描画データの作成方法を提供することを目的とする。【構成】本発明の一態様の描画データの作成方法は、電子ビームを照射する複数のカラムを搭載した描画装置を用いて試料にパターンを描画するための描画データの作成方法であって、複数のカラムの光学中心間の距離情報を入力する工程と、レイアウトデータを入力し、距離情報が示す距離の整数分の1の幅でレイアウトデータが示す描画領域を複数の小領域に仮想分割する工程と、小領域毎に領域分割されたレイアウトデータを描画装置適応のフォーマットに変換して小領域毎に領域分割された描画データを作成する工程と、描画データを出力する工程と、を備えたことを特徴とする。【選択図】図3
請求項（抜粋）：
荷電粒子ビームを照射する複数のカラムを搭載した描画装置を用いて試料にパターンを描画するための描画データの作成方法であって、
前記複数のカラムの光学中心間の距離情報を入力する入力工程と、
レイアウトデータを入力し、前記距離情報が示す距離の整数分の1の幅で前記レイアウトデータが示す描画領域を複数の小領域に仮想分割する分割工程と、
前記小領域毎に領域分割された前記レイアウトデータを描画装置適応のフォーマットに変換して前記小領域毎に領域分割された描画データを作成する作成工程と、
前記描画データを出力する出力工程と、
を備えたことを特徴とする描画データの作成方法。
IPC (1件)：
FI (2件)：
H01L21/30 541J
, H01L21/30 541W
5C034BB10
, 5F056AA33
, 5F056CA02
, 5F056CC09
, 5F056EA08
