特許
J-GLOBAL ID:200903033118282117
マイクロ凹凸パターンを有する樹脂薄膜を備えた光学素子、反射板の製造方法及び装置
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
花田 久丸 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-062416
公開番号(公開出願番号):特開2002-268057
出願日: 2001年03月06日
公開日(公表日): 2002年09月18日
要約:
【要約】【課題】 種々の3次元形状を加工精度がよく形成でき、薄膜化できるマイクロ凹凸パターンを有する光学素子の製造方法を提供することを目的とする。【解決手段】 基板5表面の樹脂薄膜4を、マイクロ凹凸パターンを有する型材33により押圧してマイクロ凹凸パターンを形成する光学素子の製造方法において、感光性樹脂による前記樹脂薄膜を前記基板5上にコートし、前記樹脂薄膜4の温度を感光性消滅温度未満に制御し、前記樹脂薄膜を軟化もしくは溶融させた状態で加圧手段2により前記型材33のマイクロ凹凸パターン面を前記樹脂薄膜表面に押圧し、前記樹脂薄膜表面にマイクロ凹凸パターンを押圧形成することを特徴とする。
請求項(抜粋):
基板表面の樹脂薄膜を、マイクロ凹凸パターンを有する型材により押圧してマイクロ凹凸パターンを形成する光学素子の製造方法において、感光性樹脂による前記樹脂薄膜を前記基板上にコートし、前記樹脂薄膜の温度を感光性消滅温度未満に制御し、前記樹脂薄膜を軟化もしくは溶融させた状態で加圧手段により前記型材のマイクロ凹凸パターン面を前記樹脂薄膜表面に押圧し、前記樹脂薄膜表面にマイクロ凹凸パターンを押圧形成することを特徴とする光学素子の製造方法。
IPC (11件):
G02F 1/1335 520
, B29C 39/10
, B29C 39/26
, G02B 5/02
, G02B 5/08
, G02F 1/1343
, G02F 1/1368
, B29K 33:00
, B29K 77:00
, B29K101:10
, B29L 31:34
FI (12件):
G02F 1/1335 520
, B29C 39/10
, B29C 39/26
, G02B 5/02 A
, G02B 5/08 A
, G02B 5/08 C
, G02F 1/1343
, G02F 1/1368
, B29K 33:00
, B29K 77:00
, B29K101:10
, B29L 31:34
Fターム (68件):
2H042DA02
, 2H042DA04
, 2H042DA11
, 2H042DC02
, 2H042DC08
, 2H042DD00
, 2H042DD02
, 2H042DE00
, 2H091FA16Y
, 2H091FC19
, 2H091FD06
, 2H091GA02
, 2H091GA13
, 2H091LA12
, 2H092GA19
, 2H092GA29
, 2H092JA24
, 2H092JA46
, 2H092JB08
, 2H092JB56
, 2H092KB21
, 2H092MA12
, 2H092MA13
, 2H092MA37
, 2H092NA27
, 2H092PA12
, 4F202AA21
, 4F202AD04
, 4F202AD08
, 4F202AH33
, 4F202AH42
, 4F202CA01
, 4F202CA03
, 4F202CB01
, 4F202CB11
, 4F202CB27
, 4F202CC10
, 4F202CL01
, 4F202CL04
, 4F202CL06
, 4F202CM90
, 4F202CN01
, 4F202CN05
, 4F204AA21
, 4F204AD04
, 4F204AD08
, 4F204AH33
, 4F204AH42
, 4F204EA03
, 4F204EB01
, 4F204EB11
, 4F204EB23
, 4F204EB25
, 4F204EE16
, 4F204EF01
, 4F204EF37
, 4F204EF49
, 4F204EK10
, 4F204EK13
, 4F204EK15
, 4F204EK17
, 4F204EK18
, 4F204EK19
, 4F204EK24
, 4F204EW01
, 4F204EW06
, 4F204EW15
, 4F204EW34
引用特許:
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