特許
J-GLOBAL ID：200903033139008651

多層膜反射鏡、その製造方法、X線露光装置、半導体デバイスの製造方法及びX線光学系

発明者：
杉崎 克己

杉崎 克己 について

, 
山本 正樹

山本 正樹 について


出願人/特許権者：
株式会社ニコン

株式会社ニコン について


代理人 (1件)： 渡部 温 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-277810
公開番号（公開出願番号）：特開2003-084095
出願日： 2001年09月13日
公開日（公表日）： 2003年03月19日
要約：
【要約】【課題】 入射波面に対する反射波面の屈曲を抑制するように多層膜の表面を除去加工して多層膜の面形状を補正した多層膜反射鏡及びその製造方法を提供する。【解決手段】 本発明に係る多層膜反射鏡の製造方法は、屈折率の異なる少なくとも二種類以上の物質を交互に所定の周期長で積層してなる多層膜2を基板1上に成膜した多層膜反射鏡に対し、前記多層膜2の表面を除去加工することによって、反射面内の反射波面4の位相を補正した多層膜反射鏡の製造方法において、前記補正された反射波面が滑らかに接続するように多層膜2の表面を除去加工するものである。
請求項（抜粋）：
屈折率の異なる少なくとも二種類以上の物質を交互に所定の周期長で積層してなる多層膜を基板上に成膜した多層膜反射鏡に対し、前記多層膜の表面を除去加工することによって、反射面内の反射波面の位相を補正した多層膜反射鏡の製造方法において、前記補正された反射波面が滑らかに接続するように多層膜の表面を除去加工することを特徴とする多層膜反射鏡の製造方法。
IPC (7件)：
G21K 1/06 ,  B32B 7/02 103 ,  G02B 5/08 ,  G02B 5/26 ,  G02B 5/28 ,  G03F 7/20 503 ,  H01L 21/027
FI (9件)：
G21K 1/06 D ,  G21K 1/06 B ,  B32B 7/02 103 ,  G02B 5/08 A ,  G02B 5/26 ,  G02B 5/28 ,  G03F 7/20 503 ,  H01L 21/30 517 ,  H01L 21/30 531 A
Fターム (28件)：
2H042AA02 ,  2H042AA25 ,  2H042AA32 ,  2H042DA08 ,  2H042DA09 ,  2H048FA05 ,  2H048FA07 ,  2H048FA09 ,  2H048FA11 ,  2H048FA18 ,  2H048FA24 ,  2H048GA07 ,  2H048GA18 ,  2H048GA33 ,  2H048GA57 ,  2H048GA60 ,  2H048GA61 ,  2H097CA15 ,  2H097LA10 ,  4F100BA08 ,  4F100DC30 ,  4F100GB41 ,  4F100JN06B ,  4F100JN08B ,  4F100JN18A ,  5F046BA05 ,  5F046CB02 ,  5F046GB01
引用特許：
審査官引用 (3件)

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