特許
J-GLOBAL ID:200903033142098696

一酸化炭素の還元による炭化水素の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 森田 順之
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2006-107978
公開番号(公開出願番号):特開2007-277465
出願日: 2006年04月10日
公開日(公表日): 2007年10月25日
要約:
【課題】FT合成において、ワックスが収率良く製造でき、かつ副生成物であるメタンの生成を抑制できる方法を提供する。【解決手段】炭素数10以上のパラフィン系炭化水素を70質量%以上含む溶剤を共存させて一酸化炭素の還元を行うことにより上記課題が解決できた。【選択図】なし
請求項(抜粋):
FT合成触媒の存在下に一酸化炭素と水素を反応させて炭化水素を製造する方法において、炭素数10以上のパラフィン系炭化水素を70質量%以上含む溶剤の共存下に反応させることを特徴とする炭化水素の製造方法。
IPC (1件):
C10G 2/00
FI (1件):
C10G2/00
Fターム (2件):
4H029CA00 ,  4H029DA00
引用特許:
出願人引用 (3件)
  • 特開平4-227847号公報
  • 特開昭59-102440号公報
  • 国際公開第2004/085055号パンフレット
審査官引用 (3件)
  • 炭化水素合成の最適化プロセス
    公報種別:公表公報   出願番号:特願2000-512796   出願人:テキサコ・デベロップメント・コーポレーション
  • 炭化水素の製造方法
    公報種別:公表公報   出願番号:特願2004-516619   出願人:シエル・インターナシヨネイル・リサーチ・マーチヤツピイ・ベー・ウイ
  • 特許第6822006号

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