特許
J-GLOBAL ID:200903092792178879

炭化水素合成の最適化プロセス

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 山川 政樹
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-512796
公開番号(公開出願番号):特表2001-517645
出願日: 1998年09月23日
公開日(公表日): 2001年10月09日
要約:
【要約】本発明は、粒子状の固体触媒の介在で水素と一酸化炭素とを反応させることによって、水素と一酸化炭素から炭化水素を生成するプロセスである。この反応は、ほぼ不活性の液体媒体と固体の粒子状触媒の介在でガスを反応させるようにした反応容器内で行われる。水素ガスおよび一酸化炭素炭素ガスが反応容器内の複数の位置で誘導される。ガスの気泡は、固体の触媒粒子およびほぼ不活性の液体媒体の層を通って、層の容積をその静容積以上に膨脹させるのに充分な速度で上方に流れる。この速度によって、液体、ガス、および固体の触媒が存在し、運動状態にある乱流反応ゾーンが生成される。
請求項(抜粋):
粒子状固体触媒と、ほぼ不活性の液体媒体とからなる反応ゾーンで水素と一酸化炭素を反応させることで、水素と一酸化炭素から炭化水素を生成するプロセスであって、 ほぼ不活性の液体媒体と固体の粒子状触媒とを介在させてガスの反応に適する沸騰層の反応容器内の単一の乱流反応ゾーンでガスを反応させ、単数または複数の水素ガスと一酸化炭素ガスからなる前記ガスは、固体の触媒粒子とほぼ不活性の液体媒体からなる反応ゾーンを通って気泡が充分な速度で上方に流れて、層の容積をその静容積以上に膨脹させるように、反応ゾーン内の複数の位置に誘導されることを特徴とするプロセス。
IPC (4件):
C07C 1/06 ,  C07C 9/00 ,  C10G 2/00 ,  C07B 61/00 300
FI (4件):
C07C 1/06 ,  C07C 9/00 ,  C10G 2/00 ,  C07B 61/00 300
Fターム (17件):
4H006AA02 ,  4H006AC29 ,  4H006BA08 ,  4H006BA19 ,  4H006BA20 ,  4H006BA23 ,  4H006BA85 ,  4H006BB11 ,  4H006BC10 ,  4H006BC11 ,  4H006BD20 ,  4H006BE20 ,  4H006BE40 ,  4H029CA00 ,  4H029DA00 ,  4H039CA10 ,  4H039CL35
引用特許:
審査官引用 (2件)
  • 特開昭59-062531
  • 特開平1-172346

前のページに戻る