特許

J-GLOBAL ID：200903033318639311

微細構造体の製造方法、2値マスク、および2値マスクの製造方法

発明者： 長坂 公夫 ,  宮前 章 ,  藤井 永一 ,  米窪 政敏
出願人/特許権者： セイコーエプソン株式会社
代理人 (1件)： 稲葉 良幸 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-027647
公開番号（公開出願番号）：特開2002-311565
出願日： 2002年02月05日
公開日（公表日）： 2002年10月23日
要約：

【要約】【課題】 曲面などのグレーレベルの形状をグレーマスクを用いずに製造可能とする。【解決手段】 露光装置の最小分解能より小さい面積単位のドット61を備えた2値マスク60を提供する。このドット61のオン・オフの面積比率により、2値マスク60を透過する露光量を制御することにより、マスク60のドット61のパターンを忠実に再現するのではなく、面積比率に対応した濃淡で被加工体を露光し、グレーレベルの構造を加工することができる。

請求項（抜粋）：

被加工体に対する加工効果が蓄積される加工媒体の透過量を2段階に制御可能な2値マスクを用いた加工装置により、前記被加工体を微細形状に加工する微細構造体の製造方法であって、前記微細形状を加工する前記加工媒体の透過量を、前記加工装置、前記被加工体および前記加工媒体の少なくとも何れかによって定まる最小分解能より小さなパターンにより制御する前記2値マスクを前記加工装置にセットして前記被加工体を加工する工程を有する微細構造体の製造方法。

IPC (3件)：

G03F 1/08 ,  G02F 1/1335 520 ,  G03F 7/20 501

FI (3件)：

G03F 1/08 D ,  G02F 1/1335 520 ,  G03F 7/20 501

Fターム (23件)：

2H091FA16Y ,  2H091FA27Y ,  2H091FA29Y ,  2H091FB02 ,  2H091FB08 ,  2H091FC10 ,  2H091GA01 ,  2H091GA02 ,  2H091LA12 ,  2H091LA16 ,  2H095BA12 ,  2H095BB32 ,  2H095BB33 ,  2H095BB34 ,  2H095BC08 ,  2H095BC09 ,  2H097AA11 ,  2H097BB01 ,  2H097JA02 ,  2H097KA03 ,  2H097LA12 ,  2H097LA15 ,  2H097LA20

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 露光用マスクおよびその製造方法・露光用マスクを用いる表面形状形成方法および露光用マスク製造装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-021114   出願人：リコー光学株式会社
• レジストパターン形成用のマスク、レジストパターンの形成方法およびレンズの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-311002   出願人：沖電気工業株式会社