特許
J-GLOBAL ID：200903033370775037
プラズマ処理方法及びプラズマ処理装置
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-264351
公開番号（公開出願番号）：特開平7-099182
出願日： 1993年09月27日
公開日（公表日）： 1995年04月11日
要約：
【要約】【目的】 安価なプラズマ処理装置とプラズマ処理方法を提供する。特にアッシング装置とアッシング方法を提供する。【構成】 大気圧で安定に放電する装置とその方法を用いてアッシング装置とその方法を実現する。大気圧放電装置は一対の電極間に誘電体を挿入したもので、該電極間に希ガスを流し電極間に印加した電界でプラズマを生成する。希ガスに酸素を供給するガスを反応ガスとして添加する。反応ガスは3%以下好ましくは1%以下が良い。
請求項（抜粋）：
大気圧下での放電をもちいて基板上の有機物を除去することを特徴とするプラズマ処理方法
IPC (2件)：
H01L 21/3065
, H01L 21/027
H01L 21/302 H
, H01L 21/30 572 A
