特許

J-GLOBAL ID：200903033469659462

三次元高分子錯体及びそれからなる多孔質水素吸蔵材料

発明者： 高木 秀樹 ,  若山 博昭 ,  福嶋 喜章 ,  北川 進
出願人/特許権者： 株式会社豊田中央研究所
代理人 (3件)： 長谷川 芳樹 ,  塩田 辰也 ,  寺崎 史朗
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-323522
公開番号（公開出願番号）：特開2005-093181
出願日： 2003年09月16日
公開日（公表日）： 2005年04月07日
要約：

【課題】 室温近傍における単位重量当たりの水素吸蔵量が十分に高く、十分な量の水素を低温で吸蔵・放出することが可能な多孔質水素吸蔵材料、並びにそのような水素吸蔵材料として有用な三次元高分子錯体の提供。【解決手段】 下記一般式(1): R-(COOH)n[式中、Rはテトラジン、トリアジン、キノキサリン、1,5-ナフチリジン、フェナジン、ピリダジン、ピリミジン、フタラジン、キナゾリン、ピラゾール、イミダゾール、オキサゾール、チアゾール、キノリン、1,9,10-アンチリジン、9a-アザフェナレン、ヘプタアザフェナレン及びペリミジンからなる群から選択される一つの複素環を示し、nは1〜3の整数を示す。]で表される第一の有機配位子と、金属原子と、前記金属原子に配位可能な原子を有する二座配位可能な第二の有機配位子とが三次元的に結合してなることを特徴とする三次元高分子錯体、並びにそれからなる多孔質水素吸蔵材料。【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

下記一般式(1): R-(COOH)n [式中、Rはテトラジン、トリアジン、キノキサリン、1,5-ナフチリジン、フェナジン、ピリダジン、ピリミジン、フタラジン、キナゾリン、ピラゾール、イミダゾール、オキサゾール、チアゾール、キノリン、1,9,10-アンチリジン、9a-アザフェナレン、ヘプタアザフェナレン及びペリミジンからなる群から選択される一つの複素環を示し、nは1〜4の整数を示す。] で表される第一の有機配位子と、金属原子と、前記金属原子に配位可能な原子を有する二座配位可能な第二の有機配位子とが三次元的に結合してなることを特徴とする三次元高分子錯体。

IPC (1件)：

H01M8/04

FI (1件)：

H01M8/04 J

Fターム (2件)：

5H027AA02 ,  5H027BA13

引用特許：

出願人引用 (2件)

• ガス貯蔵性有機金属錯体、その製造方法およびガス貯蔵装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-013696   出願人：大阪瓦斯株式会社
• 新規三次元型有機金属錯体及びガス吸着材
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-283051   出願人：大阪瓦斯株式会社, 森和亮

審査官引用 (2件)

• ガス貯蔵性有機金属錯体、その製造方法およびガス貯蔵装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-013696   出願人：大阪瓦斯株式会社
• 新規三次元型有機金属錯体及びガス吸着材
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-283051   出願人：大阪瓦斯株式会社, 森和亮

引用文献：

出願人引用 (3件)

• Inorganic Chemistry, 1995, Vol.34, No.7, p.1924-33
• Inorganica Chimica Acta, 1981, Vol.47, No.2, p.153-8
• Journal of Organometallic Chemistry, 1990, Vol.385, No.3, p.409-15

審査官引用 (3件)

• Inorganic Chemistry, 1995, Vol.34, No.7, p.1924-33
• Inorganica Chimica Acta, 1981, Vol.47, No.2, p.153-8
• Journal of Organometallic Chemistry, 1990, Vol.385, No.3, p.409-15