特許

J-GLOBAL ID：200903033480715617

フォトレジストフィルム

発明者： 日向 淳悦 ,  佐藤 弘章
出願人/特許権者： 日本合成化学工業株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-303734
公開番号（公開出願番号）：特開平11-119422
出願日： 1997年10月17日
公開日（公表日）： 1999年04月30日
要約：

【要約】【課題】 感度、解像度、剥離性、密着性、耐エッチング性又はメッキ性に非常に優れたフォトレジストフィルムを提供すること。【解決手段】 支持体フィルム(I)/感光性樹脂組成物層(II)/保護フィルム(III)からなるフォトレジストフィルムにおいて、支持体フィルム(I)のヘイズ値が0.01〜1.5%であり、かつ、感光性樹脂組成物層(II)が、酸価が95〜250mgKOH/gで、重量平均分子量が5000〜200000のベースポリマー(a)、エチレン性不飽和化合物(b)、自己開裂型開始剤(c)を含んでなり、かつ(b)中にエチレンオキシド変性トリメチロールプロパントリアクリレートを50重量%以上含むフォトレジストフィルム。

請求項（抜粋）：

支持体フィルム(I)/感光性樹脂組成物層(II)/保護フィルム(III)からなるフォトレジストフィルムにおいて、支持体フィルム(I)のヘイズ値が0.01〜1.5%であり、かつ、感光性樹脂組成物層(II)が、酸価が95〜250mgKOH/gで、重量平均分子量が5000〜200000のベースポリマー(a)、エチレン性不飽和化合物(b)、自己開裂型開始剤(c)を含んでなり、かつ(b)中にエチレンオキシド変性トリメチロールプロパントリアクリレートを50重量%以上含むことを特徴とするフォトレジストフィルム。

IPC (2件)：

G03F 7/004 512 ,  G03F 7/028

FI (2件)：

G03F 7/004 512 ,  G03F 7/028

引用特許：

審査官引用 (4件)

• プリント回路のための多層、光画像形成性、水性処理可能なエレメント
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-169209   出願人：イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー
• 感光性樹脂組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-158664   出願人：日本合成化学工業株式会社
• フォトレジスト用積層ポリエステルフィルム
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-132000   出願人：ダイアホイルヘキスト株式会社
• 感光性フィルム
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-255242   出願人：日立化成工業株式会社