特許
J-GLOBAL ID:200903033510867271
プラズマ処理装置
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
小川 勝男
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-052250
公開番号(公開出願番号):特開平8-246169
出願日: 1995年03月13日
公開日(公表日): 1996年09月24日
要約:
【要約】【構成】プラズマ処理装置の状態およびプラズマ処理の状態を検知、推定する機構、および前記機構からの情報により最適な運転条件を求める機構により構成される。【効果】最適な運転条件を算出することにより長期間に渡り安定に高い性能を維持することができる。
請求項(抜粋):
プラズマ処理装置の状態を測定する機能、被処理物の処理状態を検出する機能、装置状態および被処理物の状態から最適な運転状態を算出しこれを実現する機能を備えたことを特徴とするプラズマ処理装置。
IPC (4件):
C23F 4/00
, H01L 21/3065
, H01L 21/31
, H05H 1/46
FI (4件):
C23F 4/00 A
, H01L 21/31 C
, H05H 1/46 B
, H01L 21/302 E
引用特許:
審査官引用 (3件)
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プラズマ処理方法及びその装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平3-360284
出願人:国際電気株式会社
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プラズマ処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-135881
出願人:東京エレクトロン株式会社
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特開平4-212414
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