特許

J-GLOBAL ID：200903033587986974

スルホンイミドリチウム塩の製造方法

発明者： 米田 久成
出願人/特許権者： 旭化成株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-108328
公開番号（公開出願番号）：特開2008-266155
出願日： 2007年04月17日
公開日（公表日）： 2008年11月06日
要約：

【課題】リチウムイオン2次電池等の蓄電素子用の電解質として有用な物質であるスルホンイミドリチウム塩の新規製造法を提供する。【解決手段】スルホンイミド酸塩と無機リチウム塩とを混合・撹拌させ、スルホンイミドリチウム塩を製造する。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

下記一般式(1) Rf1SO2N(M)SO2Rf2 (1) (Rf1、Rf2は、各々独立に炭素数1から12のフッ素化炭化水素基あるいはその置換体であり、MはMa、Mb1/2であり、Maはリチウム以外のアルカリ金属、Mbはアルカリ土類金属である。) で表されるスルホンイミド酸塩を、下記一般式(2) LimX (2) (mは1または2であり、Xはハロゲン化物イオン、水酸化物イオン、炭酸イオン、過塩素酸イオン、硫酸イオンの中から選ばれるアニオンである。) で表される無機リチウム塩と混合・撹拌させ、下記一般式(3) Rf1SO2N(Li)SO2Rf2 (3) (Rf1、Rf2は、上記一般式(1)のRf1、Rf2と同じである。) で表されるスルホンイミドリチウム塩を製造する方法。

IPC (1件)：

C07C 311/48

FI (1件)：

C07C311/48

Fターム (3件)：

4H006AA02 ,  4H006AC90 ,  4H006BE61

引用特許：

出願人引用 (3件)

• 米国特許第5874616号公報
  
• スルホニルイミド化合物の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-008448   出願人：森田化学工業株式会社
• スルホンイミドの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-217532   出願人：セントラル硝子株式会社

審査官引用 (3件)

• 特開平2-056805
  
• 過フッ化アミド塩及びイオン伝導物質としてのその使用方法
  公報種別：公表公報   出願番号：特願平10-529518   出願人：イドロ-ケベック, サントル・ナショナル・ドゥ・ラ・ルシェルシュ・シャンティフィック
• スルホニルフルオリドからのイミドの製造方法
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2001-541861   出願人：イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー