特許
J-GLOBAL ID:200903033608408739
ホログラム光学素子の製造方法及び装置、並びに、イメージコンバイナ及び画像表示装置
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
四宮 通
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-226577
公開番号(公開出願番号):特開2004-069859
出願日: 2002年08月02日
公開日(公表日): 2004年03月04日
要約:
【課題】ホログラム感光材料の収縮率が設計時の見積から変動しても、その変動による光学性能の劣化を簡単な調整で抑制する。【解決手段】参照光をホログラム感光材料に照射する参照光光学系及び物体光を前記ホログラム感光材料に照射する物体光光学系を用い、参照光及び物体光をホログラム感光材料に干渉露光させる。オペレータは、入力部53から、ホログラム感光材料の実際の収縮率を入力する。制御部52は、入力された収縮率に基づいて、物体光光学系の一部であるレンズ47及びピンホール48の、その光軸方向(G方向)位置及び光軸と垂直な方向(H方向)位置を調整するように、位置調整機構51を制御する。【選択図】 図5
請求項(抜粋):
参照光をホログラム感光材料に照射する参照光光学系及び物体光を前記ホログラム感光材料に照射する物体光光学系を用い、前記参照光及び前記物体光を前記ホログラム感光材料に干渉露光させることで製造されるホログラム光学素子の製造方法であって、
前記干渉露光により作製されるホログラム光学素子の前記ホログラム感光材料の実際の収縮率に関する情報、及び、前記干渉露光により作製されるホログラム光学素子の使用時に当該ホログラム光学素子に照射される再生光を発する光源の実際の発光スペクトルに関する情報のうちの、少なくとも一方の情報に基づいて、前記参照光光学系の一部及び前記物体光光学系の一部のうちの、少なくとも一方の位置を調整してから露光することを特徴とするホログラム光学素子の製造方法。
IPC (3件):
G03H1/04
, G02B5/32
, G02B27/02
FI (3件):
G03H1/04
, G02B5/32
, G02B27/02 Z
Fターム (13件):
2H049CA05
, 2H049CA17
, 2H049CA22
, 2H049CA30
, 2K008AA00
, 2K008BB04
, 2K008CC01
, 2K008DD11
, 2K008DD15
, 2K008EE04
, 2K008HH01
, 2K008HH18
, 2K008HH20
引用特許:
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