特許
J-GLOBAL ID:200903033614653443

導電性微粒子の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-108841
公開番号(公開出願番号):特開2002-088497
出願日: 2001年04月06日
公開日(公表日): 2002年03月27日
要約:
【要約】【課題】 めっき液中で微粒子が凝集するということがなく、工程が簡単で、かつ極めて均一な厚さのめっき層を有する導電性微粒子を得ることができる導電性微粒子の製造方法を提供すること、また、バイポーラ現象が生じることなく、全ての微粒子に対して均一なめっき層を形成することができる導電性微粒子の製造方法を提供する。【解決手段】 めっき槽内に微粒子回転攪拌手段を有するめっき装置を用いて被めっき微粒子の表面にめっき層を形成してなる導電性微粒子の製造方法であって、前記微粒子回転攪拌手段は、少なくとも一部がフィルタからなる微粒子収納容器を有しており、前記めっき装置は、更に、めっき槽内に流体振動攪拌手段を有しており、前記導電性微粒子は、粒径が0.5〜5000μmであり、かつ、粒径の変動係数が50%以下である導電性微粒子の製造方法。
請求項(抜粋):
めっき槽内に微粒子回転攪拌手段を有するめっき装置を用いて被めっき微粒子の表面にめっき層を形成してなる導電性微粒子の製造方法であって、前記微粒子回転攪拌手段は、少なくとも一部がフィルタからなる微粒子収納容器を有しており、前記めっき装置は、更に、めっき槽内に流体振動攪拌手段を有しており、前記導電性微粒子は、粒径が0.5〜5000μmであり、かつ、粒径の変動係数が50%以下であることを特徴とする導電性微粒子の製造方法。
IPC (3件):
C25D 7/00 ,  C25D 5/56 ,  H01B 13/00 501
FI (3件):
C25D 7/00 R ,  C25D 5/56 A ,  H01B 13/00 501 Z
Fターム (14件):
4K024AA02 ,  4K024AA03 ,  4K024AA05 ,  4K024AA07 ,  4K024AA09 ,  4K024AA10 ,  4K024AA11 ,  4K024AA12 ,  4K024AB02 ,  4K024BA12 ,  4K024BB28 ,  4K024BC08 ,  4K024CA05 ,  4K024CB12
引用特許:
審査官引用 (9件)
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