特許
J-GLOBAL ID：200903033650005091

陰イオン交換膜、その製造方法、および溶液処理装置

発明者：
菅家 良雄

菅家 良雄 について

, 
戸田 洋

戸田 洋 について

, 
松村 幸夫

松村 幸夫 について

, 
久保田 裕久

久保田 裕久 について


出願人/特許権者：
旭硝子株式会社

旭硝子株式会社 について

, 
三菱化学株式会社

三菱化学株式会社 について


代理人 (1件)： 渡邉 順之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-220984
公開番号（公開出願番号）：特開2002-114854
出願日： 2001年07月23日
公開日（公表日）： 2002年04月16日
要約：
【要約】【課題】 耐アルカリ性及び耐熱性に優れた陰イオン交換膜を提供する。またその陰イオン交換膜を使用することで従来適用が困難であった膜分離プロセス装置及び利用方法を提供する。【解決手段】 下記一般式(1)(ただし、Aは、炭素数3〜8の直鎖状、分岐状アルキレン基、または総炭素数4〜8のアルキレンオキシアルキル基を表す。R1、R2、R3はそれぞれ水素原子、又は炭素数1〜6のアルキル基、ヒドロキシアルキル基を表す。X-は、アニオンを表す。ベンゼン環に結合している水素原子はアルキル基又はハロゲン原子で置換されていてもよい。)で表される繰り返し単位を含有する重合体と熱可塑性重合体の均一混合樹脂相を有する陰イオン交換膜。【化5】
請求項（抜粋）：
下記一般式(1)(ただし、Aは、炭素数3〜8のアルキレン基または総炭素数4〜9のアルキレンオキシアルキル基を表す。R1、R2、R3はそれぞれ水素原子、又は炭素数1〜6のアルキル基、ヒドロキシアルキル基を表す。X-は、アニオンを表す。ベンゼン環に結合している水素原子はアルキル基またはハロゲン原子で置換されていてもよい。)で表される繰り返し単位を含有する重合体20〜96質量%と、イオン交換基を有しない熱可塑性重合体4〜80質量%とが、実質的に均一に含有される樹脂相を含む陰イオン交換膜。【化1】
IPC (11件)：
C08J 5/22 104 ,  C08J 5/22 CER ,  B01D 61/28 ,  B01D 61/46 500 ,  B01D 71/28 ,  B01J 41/14 ,  B01J 47/12 ,  C02F 1/469 ,  C08F 2/00 ,  C08L 25/18 ,  C08L101/00
FI (11件)：
C08J 5/22 104 ,  C08J 5/22 CER ,  B01D 61/28 ,  B01D 61/46 500 ,  B01D 71/28 ,  B01J 41/14 F ,  B01J 47/12 D ,  C08F 2/00 C ,  C08L 25/18 ,  C08L101/00 ,  C02F 1/46 103
Fターム (54件)：
4D006GA13 ,  4D006GA17 ,  4D006MA03 ,  4D006MA06 ,  4D006MA14 ,  4D006MB07 ,  4D006MB12 ,  4D006MB15 ,  4D006MB16 ,  4D006MB18 ,  4D006MC22X ,  4D006MC23X ,  4D006MC24X ,  4D006MC27X ,  4D006MC39X ,  4D006MC77 ,  4D006MC78X ,  4D006NA42 ,  4D006NA46 ,  4D006NA49 ,  4D006NA54 ,  4D006PA01 ,  4D006PA03 ,  4D006PA04 ,  4D006PB03 ,  4D006PB12 ,  4D061DA04 ,  4D061DB18 ,  4D061EA09 ,  4D061EB04 ,  4D061EB13 ,  4F071AA02 ,  4F071AA22 ,  4F071FA01 ,  4F071FA10 ,  4F071FB02 ,  4F071FC04 ,  4F071FD01 ,  4F071FD02 ,  4J002BB02X ,  4J002BB24X ,  4J002BB27X ,  4J002BC02X ,  4J002BC05X ,  4J002BC10W ,  4J002BC11W ,  4J002BC12W ,  4J002BD03X ,  4J002BG10X ,  4J002BP01X ,  4J002GD01 ,  4J011CA01 ,  4J011CA08 ,  4J011CB00
引用特許：
出願人引用 (9件)
全件表示
審査官引用 (9件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM