真空処理装置の運転方法及び真空処理装置

発明者： , , , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：小川勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-223339
公開番号（公開出願番号）：特開平11-067869
出願日： 1997年08月20日
公開日（公表日）： 1999年03月09日
要約：

【要約】 (修正有)【解決手段】プロセス処理装置の運転有効/無効であることを示す運転情報信号を発生する運転情報信号発生手段と、プロセス処理装置の運転有効/無効であることを示す運転情報信号を記憶する運転情報信号記憶手段とを設け、運転情報信号を元にして運転無効となった該プロセス処理装置を使用せず、他の正常なプロセス処理装置を使って運転続行する装置制御手段を設けたものである。又装置の機側でのメンテナンス作業を通常のウエハ処理と並行作業する際、ガスラインのエアオペレーションバルブ駆動用エア-ラインや供給している電源を遮断できる機能を設けた。【効果】プロセス処理を行う2つ以上のプロセス処理装置と、ウェハの搬送を行う搬送処理装置で構成された真空処理装置では、2つ以上あるプロセス処理室の内、どれかが故障等で使用できなくなった場合でも運転続行ができる。

請求項（抜粋）：

プロセス処理を行う複数のプロセス処理装置と、ウェハの搬送を行う搬送処理装置と、これらを制御する制御装置とで構成され、少なくとも2つ以上のプロセス処理装置が搬送処理装置に取り付けられ、該2つ以上のプロセス処理装置を使ってウェハ処理する真空処理装置の運転方法において、前記各プロセス処理装置が運転有効又は運転無効かの状態判断を行い、該判断で運転無効のプロセス処理装置を切り放し、前記搬送処理装置を用いてウェハを運転有効なプロセス処理装置に搬送し、該運転有効なプロセス処理装置のみを使ってウェハ処理を行うことを特徴とする真空処理装置の運転方法。

IPC (3件)：

H01L 21/68 , H01L 21/02 , H01L 21/3065

FI (3件)：

H01L 21/68 A , H01L 21/02 Z , H01L 21/302 B

引用特許：

審査官引用 (4件)

半導体製造装置の障害対処システム
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-222623 出願人：国際電気株式会社
半導体製造ラインの構成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-319782 出願人：株式会社日立製作所
特開平3-274746

全件表示

前のページに戻る