特許
J-GLOBAL ID:200903090180428040

処理方法及び処理装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 中本 菊彦
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-183539
公開番号(公開出願番号):特開平9-017838
出願日: 1995年06月27日
公開日(公表日): 1997年01月17日
要約:
【要約】【目的】 処理中に各装置の駆動が停止した際に、処理状況に応じて被処理体を回収して、被処理体の再利用を可能にし、歩留まりの向上を図る。【構成】 処理中の駆動が停止した際にその停止をアラーム9にて表示し、また、駆動停止中の半導体ウエハWの処理状態をセンサ50にて検出すると共に、搬出用容器6a及び回収用容器6b内の半導体ウエハWの有無状態をマッピングセンサ15にて検出する。センサ50及びマッピングセンサ15の信号に基づいてCPU8を駆動し、CPU8からの信号に基づいて搬送機構4及びメインアーム10を駆動して、未処理の半導体ウエハWを搬出用容器6aに、処理済みの半導体ウエハWを回収用容器6bに搬送する。
請求項(抜粋):
複数の未処理の被処理体を収容する搬出用容器から選出された所定の被処理体を搬出して処理装置で適宜処理を施し、処理済みの被処理体を回収用容器に収容する処理方法において、上記処理中に上記処理装置の駆動が停止した際に、上記容器内の被処理体の有無状態を検出すると共に、搬送及び処理中の被処理体の状態を表示し、未処理の被処理体を上記搬出用容器に戻し、処理済みの被処理体を回収用容器に回収することを特徴とする処理方法。
IPC (3件):
H01L 21/68 ,  B65G 49/07 ,  H01L 21/02
FI (3件):
H01L 21/68 A ,  B65G 49/07 C ,  H01L 21/02 Z
引用特許:
審査官引用 (6件)
  • 半導体製造装置及びそれにおける表示方法
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平7-016347   出願人:国際電気株式会社
  • 処理装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平4-047738   出願人:東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン九州株式会社
  • 特開昭63-155643
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