特許

J-GLOBAL ID：200903033751768754

発光体蒸着膜のパタ-ン形成方法

発明者： 柏木 幹文 ,  楠 哲了
出願人/特許権者： 日本ゼオン株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-294176
公開番号（公開出願番号）：特開2000-194143
出願日： 1999年10月15日
公開日（公表日）： 2000年07月14日
要約：

【要約】【課題】 耐熱性のある絶縁膜を得る。【解決手段】 露光後の感光性樹脂膜パターンを、当該膜パターンの耐熱温度±10°Cの間で加熱しながら、紫外線照射を行うことで感光性樹脂膜の耐熱性を向上させる。

請求項（抜粋）：

基板上に、感光性樹脂組成物を塗布し、成膜して得られた樹脂膜をパターン状に露光した後、現像し、次いで、得られた膜パターンを有する基板上に発光体を蒸着させる発光体蒸着膜のパターン形成方法において、露光後の感光性樹脂膜パターンを加熱しながら紫外線照射を行い、且つ、加熱条件が?@(当該膜パターンの耐熱温度-10°C)≦加熱開始温度<当該膜パターンの耐熱温度、?A当該膜パターンの耐熱温度≦加熱終了温度≦(当該膜パターンの耐熱温度+10°C)であり、さらに?B加熱開始後から終了前までの温度は当該膜パターンの耐熱温度±10°Cの範囲内である工程を有することを特徴とする発光体蒸着膜のパターン形成方法。

IPC (6件)：

G03F 7/40 521 ,  C09K 11/02 ,  C23C 14/24 ,  C08J 7/04 ,  H05B 33/10 ,  H05B 33/14

FI (6件)：

G03F 7/40 521 ,  C09K 11/02 A ,  C23C 14/24 R ,  C08J 7/04 Z ,  H05B 33/10 ,  H05B 33/14 A

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 有機エレクトロルミネッセンス素子およびその製造方法と有機エレクトロルミネッセンス表示装置およびその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-329811   出願人：ティーディーケイ株式会社
• フォトレジストを用いるホールパターンの形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-080519   出願人：三菱化学株式会社