浄化槽

発明者： , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：若林邦彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-347691
公開番号（公開出願番号）：特開平11-169872
出願日： 1997年12月17日
公開日（公表日）： 1999年06月29日
要約：

【要約】【課題】既設の単独処理浄化槽を用いて、合併処理可能な浄化槽を提供する。【解決手段】流入口1を有した沈殿分離室2と、ばっ気室3と、沈殿室4と、流出口6を有した消毒槽5とを、この順番で連通させた地下埋設の単独処理浄化槽7において、該単独処理浄化槽7とは別に膜モジュール8と、該膜モジュール8の下方に設置される散気管9とを有した膜処理槽10を地上設置し、前記ばっ気室3と膜処理槽10とを汚水汲上用のポンプ11を有した移送管12で連通させ、前記膜モジュール8と消毒槽5とを流出管13にて連通し、前記膜処理槽10底部と沈殿室4とを弁14を有した余剰汚泥返送管15にて連通した。

請求項（抜粋）：

流入口を有した沈殿分離室と、ばっ気室と、沈殿室と、流出口を有した消毒槽とを、この順番で連通させた地下埋設の単独処理浄化槽において、該単独処理浄化槽とは別に膜モジュールと、該膜モジュールの下方に設置される散気管とを有した膜処理槽を地上設置し、前記ばっ気室と膜処理槽とを汚水汲上用のポンプを有した移送管で連通させ、前記膜モジュールと消毒槽とを流出管にて連通し、前記膜処理槽底部と沈殿分離室とを弁を有した余剰汚泥返送管にて連通したことを特徴とする浄化槽。

IPC (3件)：

C02F 3/00 , C02F 1/44 , C02F 3/12

FI (3件)：

C02F 3/00 B , C02F 1/44 F , C02F 3/12 M

引用特許：

出願人引用 (2件)

浄化槽
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-105268 出願人：日立化成工業株式会社
浄化装置及びその設置方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-155381 出願人：桑嶋博

審査官引用 (1件)

浄化槽
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-105268 出願人：日立化成工業株式会社

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