特許
J-GLOBAL ID：200903033834999618
含フッ素重合性エステル化合物、その製造方法、重合体、フォトレジスト組成物、及びパターン形成方法
発明者：
,
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
小島 隆司
, 重松 沙織
, 小林 克成
, 石川 武史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-203195
公開番号（公開出願番号）：特開2006-022259
出願日： 2004年07月09日
公開日（公表日）： 2006年01月26日
要約：
【解決手段】 一般式(1)又は(2)で表される含フッ素重合性エステル化合物。 【化1】(R1は水素原子、メチル基又はトリフルオロメチル基、R2は二価の炭化水素基、R3は水素原子又は一価の炭化水素基、R2とR3は互いに結合してこれらが結合する炭素原子と共に環を形成してもよい。R4は水素原子、水酸基、又は一価の炭化水素基、R5は酸不安定基。)【効果】 本発明は、新規な含フッ素重合性エステル化合物を提供し、該含フッ素重合性エステル化合物は、機能性材料、医薬・農薬などの原料として有用であり、なかでも感放射線レジスト組成物のベース樹脂を製造するためのポリマー単量体として非常に有用である。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
下記一般式(1)又は(2)で表される含フッ素重合性エステル化合物。
IPC (5件)：
C08F 20/26
, C07C 67/08
, C07C 67/29
, C07C 69/653
, G03F 7/039
C08F20/26
, C07C67/08
, C07C67/29
, C07C69/653
, G03F7/039 601
2H025AB16
, 2H025AC04
, 2H025AC08
, 2H025AD03
, 2H025BE00
, 2H025BG00
, 2H025CC03
, 2H025FA03
, 2H025FA12
, 2H025FA17
, 4H006AA01
, 4H006AA02
, 4H006AB46
, 4H006AC41
, 4H006AC48
, 4H006BJ20
, 4H006BJ30
, 4H006BJ50
, 4H006BM10
, 4H006BM71
, 4H006BN10
, 4H006BN20
, 4H006KA06
, 4H006KA30
, 4H006KC14
, 4H006KE20
, 4H006KF10
, 4J100AL08P
, 4J100BA03P
, 4J100BB18P
, 4J100BC03P
, 4J100BC08P
, 4J100BC09P
, 4J100BC12P
, 4J100BC43P
, 4J100JA38
