感放射線性樹脂組成物

発明者： , , , , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：福沢俊明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-108824
公開番号（公開出願番号）：特開2002-072484
出願日： 2001年04月06日
公開日（公表日）： 2002年03月12日
要約：

【要約】【課題】放射線に対する透明性が高く、しかも感度、解像度、パターン形状等のレジストとしての基本物性に優れるのみならず、微細加工時に現像欠陥を生じることがなく、半導体素子を高い歩留りで製造することができる新規な感放射線性樹脂組成物を提供する。【解決手段】 (A)下記一般式(1)で表される構造を有する酸解離性基含有樹脂、並びに(B)感放射線性酸発生剤を含有することを特徴とする感放射線性樹脂組成物。【化1】〔一般式(1)において、R1 は水素原子、1価の酸解離性基、酸解離性基をもたないアルキル基または酸解離性基をもたないアルキルカルボニル基を示し、X1 は炭素数1〜4の直鎖状もしくは分岐状のフッ素化アルキル基を示し、R2は水素原子、直鎖状もしくは分岐状のアルキル基または直鎖状もしくは分岐状のフッ素化アルキル基を示す。〕

請求項（抜粋）：

(A)下記一般式(1)で表される構造を有する酸解離性基含有樹脂、並びに(B)感放射線性酸発生剤を含有することを特徴とする感放射線性樹脂組成物。【化1】〔一般式(1)において、R1 は水素原子、1価の酸解離性基、酸解離性基をもたない炭素数1〜6のアルキル基または酸解離性基をもたない炭素数2〜7のアルキルカルボニル基を示し、X1 は炭素数1〜4の直鎖状もしくは分岐状のフッ素化アルキル基を示し、R2 は水素原子、炭素数1〜10の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基または炭素数1〜10の直鎖状もしくは分岐状のフッ素化アルキル基を示す。〕

IPC (6件)：

G03F 7/039 601 , C08K 5/00 , C08L 33/06 , C08L 35/00 , C08L 45/00 , H01L 21/027

FI (6件)：

G03F 7/039 601 , C08K 5/00 , C08L 33/06 , C08L 35/00 , C08L 45/00 , H01L 21/30 502 R

Fターム (22件)：

2H025AA01 , 2H025AA02 , 2H025AA03 , 2H025AB16 , 2H025AC04 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BG00 , 2H025FA03 , 2H025FA12 , 2H025FA17 , 4J002BK001 , 4J002EH058 , 4J002EH138 , 4J002EN047 , 4J002EN137 , 4J002ER006 , 4J002EU077 , 4J002EU117 , 4J002EV296 , 4J002GP03

引用特許：

審査官引用 (6件)

高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-159834 出願人：信越化学工業株式会社
レジスト組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-117209 出願人：旭硝子株式会社
157nmリソグラフィー用のレジスト材料
公報種別：公表公報出願番号：特願2001-562262 出願人：マサチューセッツ・インスティテュート・オブ・テクノロジー

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引用文献：

審査官引用 (2件)

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