特許
J-GLOBAL ID:200903033844084618
ウエハ収納治具のパージ方法、ロードポートおよび半導体装置の製造方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
筒井 大和
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-023640
公開番号(公開出願番号):特開2004-235516
出願日: 2003年01月31日
公開日(公表日): 2004年08月19日
要約:
【課題】半導体ウエハの収納治具であるFOUPの内部の雰囲気置換を短時間で行うことのできる技術を提供する。【解決手段】ロードポート17上に半導体ウエハ12が収納されたFOUP1を移載した後、FIMSドア24によってFOUP1のドア3を固定して取り外し、さらにFOUP1のシェル2から半導体ウエハ12を取り出し、所定の製造処理を半導体ウエハ12に施す。製造処理の終了後、半導体ウエハ12をシェル2へ戻し、FIMSドア24を閉位置に戻すとともにシェル2を2〜3cm程度後退させて、FIMSドア24とシェル2との間に隙間を作り、FIMSドア24の左右斜め前方のロードポート17上に配置されたガス導入管27からシェル2の内部にパージガスを導入してシェル2の内部の雰囲気をパージガスに置換する。【選択図】 図9
請求項(抜粋):
半導体ウエハを収納する保持部と開閉扉部とを備えたウエハ収納治具のパージ方法であって、前記保持部の開口部の左右に外部からパージガスを供給することにより、前記保持部の内部に前記パージガスを導入し、前記保持部の内部の雰囲気を前記保持部の開口部の上下から排気することを特徴とするウエハ収納治具のパージ方法。
IPC (1件):
FI (2件):
H01L21/68 A
, H01L21/68 T
Fターム (19件):
5F031CA02
, 5F031DA08
, 5F031EA14
, 5F031FA03
, 5F031FA07
, 5F031FA11
, 5F031GA02
, 5F031GA57
, 5F031GA58
, 5F031GA60
, 5F031KA20
, 5F031MA07
, 5F031MA15
, 5F031MA17
, 5F031NA02
, 5F031NA04
, 5F031NA10
, 5F031NA15
, 5F031NA16
引用特許:
審査官引用 (2件)
-
処理方法および処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-094006
出願人:東京エレクトロン株式会社
-
ウェファー移送方法および装置
公報種別:公表公報
出願番号:特願2000-553984
出願人:エイエスエム・インターナシヨナル・エヌ・ブイ
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