不揮発性半導体記憶装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：政木良文 , 橋本薫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-353734
公開番号（公開出願番号）：特開2004-185755
出願日： 2002年12月05日
公開日（公表日）： 2004年07月02日
要約：

【課題】読み出し並びに書き込み動作時における非選択メモリセルの可変抵抗素子に対する電圧ストレスを軽減し、より高信頼度のデータ保持特性を担保できる不揮発性半導体記憶装置を提供する。【解決手段】不揮発性のメモリセル1を行方向及び列方向に夫々複数配列し、その中から所定のメモリセルまたはメモリセル群を選択するために行方向と列方向に夫々複数のワード線WLと複数のビット線BLとを配列してなるメモリセルアレイを有し、メモリセル1は、電気抵抗の変化により情報を記憶する可変抵抗素子2の一端側と選択トランジスタ3のソースとを接続してなり、メモリセルアレイ内において、選択トランジスタ3のドレインが列方向に沿って共通のビット線BLに接続し、可変抵抗素子2の他端側がソース線SLに接続し、選択トランジスタ3のゲートが行方向に沿って共通のワード線WLに接続してなる。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

不揮発性のメモリセルを行方向及び列方向に夫々複数配列し、その中から所定のメモリセルまたはメモリセル群を選択するために行方向と列方向に夫々複数のワード線と複数のビット線とを配列してなるメモリセルアレイを有する半導体記憶装置であって、前記メモリセルは、電気抵抗の変化により情報を記憶する可変抵抗素子の一端側と選択トランジスタのソースとを接続してなり、前記メモリセルアレイ内において、前記選択トランジスタのドレインが前記列方向に沿って共通の前記ビット線に接続し、前記可変抵抗素子の他端側がソース線に接続し、前記選択トランジスタのゲートが前記行方向に沿って共通の前記ワード線に接続してなることを特徴とする不揮発性半導体記憶装置。

IPC (2件)：

G11C13/00 , H01L27/10

FI (2件)：

G11C13/00 A , H01L27/10 451

Fターム (6件)：

5F083FZ10 , 5F083GA21 , 5F083JA60 , 5F083MA06 , 5F083MA19 , 5F083MA20

引用特許：

審査官引用 (7件)

薄膜磁性体記憶装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-346896 出願人：三菱電機株式会社
半導体メモリ装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-295124 出願人：松下電器産業株式会社
特許第6473332号

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