現像装置、現像方法および基板処理装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：吉田茂明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-328631
公開番号（公開出願番号）：特開平11-016830
出願日： 1997年11月28日
公開日（公表日）： 1999年01月22日
要約：

【要約】【課題】基板上の感光性膜に高いスループットで均一な現像処理を行うことができる現像装置および現像方法ならびにそれを備えた基板処理装置を提供することである。【解決手段】現像処理時に基板100を基板保持部1により静止状態で保持する。現像液吐出ノズル11が、基板100外の一方側の位置から基板100上を通過して基板100外の他方側の位置まで走査方向Aに直線状に移動し、基板100上に現像液を供給する。現像液吐出ノズル11の走査方向Aへの移動後に、基板搬送装置が基板保持部1に保持される基板100を交換する。その後、現像液吐出ノズル11が、基板100外の他方側の位置から基板100上を通過して基板100外の一方側の位置まで走査方向Aと逆の走査方向Dに直線状に移動し、基板100上に現像液を供給する。

請求項（抜粋）：

基板を水平姿勢で保持する基板保持手段と、現像液を吐出する現像液吐出ノズルと、前記基板保持手段に静止状態で保持された基板外の一方側の位置と前記基板上を通過して前記基板外の他方側の位置との間で前記現像液吐出ノズルを往復移動させる移動手段と、前記移動手段による前記現像液吐出ノズルの往移動時および復移動時に前記現像液吐出ノズルによる現像液の吐出および停止を制御する制御手段とを備えたことを特徴とする現像装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , G03F 7/30 501

FI (3件)：

H01L 21/30 569 C , G03F 7/30 501 , H01L 21/30 569 F

引用特許：

審査官引用 (3件)

基板処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-271490 出願人：大日本スクリーン製造株式会社
処理方法と処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-018680 出願人：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン九州株式会社
特開平4-124812

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