特許
J-GLOBAL ID：200903033994895126

SiH基含有化合物の製造方法

発明者：
一柳 典克

一柳 典克 について

, 
藤田 雅幸

藤田 雅幸 について

, 
大内 克哉

大内 克哉 について


出願人/特許権者：
株式会社カネカ

株式会社カネカ について


代理人 (1件)： 安富 康男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-164261
公開番号（公開出願番号）：特開2006-335718
出願日： 2005年06月03日
公開日（公表日）： 2006年12月14日
要約：
【課題】 SiH基を有するポリオルガノシロキサン原料のリサイクルを必要とせずに、ゲル化することなく、低粘度の、1分子中に少なくとも2個のSiH基を有する化合物を製造する方法を提供する。【解決手段】 1分子中に少なくとも3個のSiH基を有する鎖状及び/又は環状のポリオルガノシロキサン化合物と、SiH基と反応性を有する炭素-炭素二重結合を1分子中に1個含有する化合物を、ヒドロシリル化触媒の存在下で反応させた後、さらに得られた反応物と、SiH基と反応性を有する炭素-炭素二重結合を1分子中に少なくとも2個含有する化合物を、ヒドロシリル化触媒の存在下で反応させる。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
(A)1分子中に少なくとも3個のSiH基を有する鎖状及び/又は環状のポリオルガノシロキサン化合物と、(B)SiH基と反応性を有する炭素-炭素二重結合を1分子中に1個含有する化合物を、(D)ヒドロシリル化触媒の存在下で反応させた後、さらに得られた反応物と、(C)SiH基と反応性を有する炭素-炭素二重結合を1分子中に少なくとも2個含有する化合物を、(D)ヒドロシリル化触媒の存在下で反応させることを特徴とする、1分子中に少なくとも2個のSiH基を含有する化合物の製造方法。
IPC (2件)：
C07F 7/21 ,  C08G 77/48
FI (2件)：
C07F7/21 ,  C08G77/48
Fターム (53件)：
4H049VN01 ,  4H049VP09 ,  4H049VQ54 ,  4H049VQ59 ,  4H049VQ87 ,  4H049VR11 ,  4H049VR21 ,  4H049VR22 ,  4H049VR42 ,  4H049VS02 ,  4H049VS87 ,  4H049VT17 ,  4H049VT30 ,  4H049VU12 ,  4H049VU17 ,  4H049VW02 ,  4H049VW32 ,  4J246AA11 ,  4J246AB05 ,  4J246AB13 ,  4J246BA02X ,  4J246BA020 ,  4J246BB02X ,  4J246BB020 ,  4J246BB021 ,  4J246BB24X ,  4J246BB240 ,  4J246BB241 ,  4J246BB27X ,  4J246BB270 ,  4J246BB271 ,  4J246BB34X ,  4J246BB340 ,  4J246BB342 ,  4J246BB36X ,  4J246BB360 ,  4J246BB361 ,  4J246CA01X ,  4J246CA010 ,  4J246CA230 ,  4J246CA24X ,  4J246CA56M ,  4J246CA56X ,  4J246CA68M ,  4J246CA68X ,  4J246CA680 ,  4J246FA222 ,  4J246FA452 ,  4J246GA04 ,  4J246GA08 ,  4J246GA11 ,  4J246GB04 ,  4J246HA57
引用特許：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (3件)

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