特許
J-GLOBAL ID：200903034050842140

毛髪化粧料

発明者：
木下 耕一

木下 耕一 について

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大森 隆司

大森 隆司 について

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鹿子木 宏之

鹿子木 宏之 について

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宮原 令二

宮原 令二 について

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中根 俊彦

中根 俊彦 について


出願人/特許権者：
株式会社資生堂

株式会社資生堂 について


代理人 (1件)： 岩橋 祐司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-017628
公開番号（公開出願番号）：特開2003-286138
出願日： 2003年01月27日
公開日（公表日）： 2003年10月07日
要約：
【要約】【課題】 本発明の目的は、べたつき感、しっとり感、なめらか感、しなやか感といった使用感触に優れた毛髪化粧料を提供することにある。【解決手段】 下記一般式化1で示されるアルキレンオキシド誘導体を含む毛髪化粧料。【化1】R1O-[(AO)m(EO)n]-R2(式中、AOは炭素数3〜4のオキシアルキレン基、EOはオキシエチレン基、m及びnはそれぞれ前記オキシアルキレン基、オキシエチレン基の平均付加モル数で、1≦m≦70、1≦n≦70である。炭素数3〜4のオキシアルキレン基とオキシエチレン基の合計に対するオキシエチレン基の割合は、20〜80質量%である。R1,R2は、同一もしくは異なってもよい炭素数1〜4の炭化水素基又は水素原子であり、R1及びR2の炭化水素基数に対する水素原子数の割合が0.15以下である。)
請求項（抜粋）：
下記一般式化1で示されるアルキレンオキシド誘導体を含む毛髪化粧料。【化1】R1O-[(AO)m(EO)n]-R2(式中、AOは炭素数3〜4のオキシアルキレン基、EOはオキシエチレン基、m及びnはそれぞれ前記オキシアルキレン基、オキシエチレン基の平均付加モル数で、1≦m≦70、1≦n≦70である。炭素数3〜4のオキシアルキレン基とオキシエチレン基の合計に対するオキシエチレン基の割合は、20〜80質量%である。炭素数3〜4のオキシアルキレン基とオキシエチレン基はブロック状に付加していてもランダム状に付加していてもよい。R1,R2は、同一もしくは異なってもよい炭素数1〜4の炭化水素基又は水素原子であり、R1及びR2の炭化水素基数に対する水素原子数の割合が0.15以下である。)
Fターム (40件)：
4C083AA112 ,  4C083AA122 ,  4C083AC022 ,  4C083AC072 ,  4C083AC122 ,  4C083AC132 ,  4C083AC152 ,  4C083AC172 ,  4C083AC181 ,  4C083AC182 ,  4C083AC242 ,  4C083AC302 ,  4C083AC352 ,  4C083AC422 ,  4C083AC432 ,  4C083AC482 ,  4C083AC581 ,  4C083AC582 ,  4C083AC641 ,  4C083AC642 ,  4C083AC691 ,  4C083AC692 ,  4C083AC902 ,  4C083AD041 ,  4C083AD042 ,  4C083AD152 ,  4C083AD162 ,  4C083AD222 ,  4C083AD411 ,  4C083AD412 ,  4C083BB06 ,  4C083BB11 ,  4C083BB21 ,  4C083BB41 ,  4C083BB48 ,  4C083BB53 ,  4C083CC33 ,  4C083CC39 ,  4C083EE06 ,  4C083EE07
引用特許：
出願人引用 (7件)
  • 特公昭48-1880号公報
  • 特開昭62-51612号公報
  • 特開昭62-51611号公報
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審査官引用 (3件)

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