特許

J-GLOBAL ID：200903034123452051

干渉測定装置、露光装置およびデバイス製造方法

発明者： 佐藤 隆史
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (2件)： 齋藤 和則 ,  伊東 哲也
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-213312
公開番号（公開出願番号）：特開2009-047523
出願日： 2007年08月20日
公開日（公表日）： 2009年03月05日
要約：

【課題】被測定物の屈折率均質性または透過波面の収差を高精度に測定する干渉測定装置、露光装置およびデバイス製造方法を提供する。【解決手段】 反射面6aを有する反射物である反射プレート6を有し、被測定物12を介した光を反射面6aで反射させて干渉縞を形成する干渉測定装置であって、反射面6aを焦点位置とした時の干渉測定装置の変調伝達関数であるMTFに基づいて、前記干渉縞から得られる位相差分布を補正することを特徴とする。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

反射面を有する反射物を有し、被測定物を介した光を前記反射面で反射させて干渉縞を形成する干渉測定装置であって、 前記反射面を焦点位置とした時の前記干渉測定装置の変調伝達関数に基づいて、前記干渉縞から得られる位相差分布を補正することを特徴とする干渉測定装置。

IPC (5件)：

G01J 9/02 ,  G01B 9/02 ,  G01M 11/02 ,  H01L 21/027 ,  G03F 7/20

FI (5件)：

G01J9/02 ,  G01B9/02 ,  G01M11/02 B ,  H01L21/30 503A ,  G03F7/20 521

Fターム (18件)：

2F064AA00 ,  2F064BB04 ,  2F064DD10 ,  2F064EE05 ,  2F064GG12 ,  2F064GG22 ,  2F064GG41 ,  2F064GG44 ,  2F064GG61 ,  2F064GG64 ,  2F064HH03 ,  2F064HH08 ,  2F064JJ01 ,  2G086HH06 ,  5F046CC01 ,  5F046CC02 ,  5F046CC03 ,  5F046CC16

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 干渉装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-370727   出願人：キヤノン株式会社
• 干渉装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-370728   出願人：キヤノン株式会社