特許
J-GLOBAL ID：200903057426697383

干渉装置

発明者：
蔵本 福之

蔵本 福之 について


出願人/特許権者：
キヤノン株式会社

キヤノン株式会社 について


代理人 (1件)： 高梨 幸雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-370727
公開番号（公開出願番号）：特開2004-198381
出願日： 2002年12月20日
公開日（公表日）： 2004年07月15日
要約：
【課題】被検面の面形状や物体のホモジニティ等を高精度に測定することができる干渉装置を得ること。【解決手段】光源手段から射出された光束の一部を被検面で反射或いは被検物を透過させた後に反射させることによって得られる被検光束と、該光源手段から射出された光束の一部を参照面によって反射させて得られる参照光束とを干渉させる光学手段と、該干渉縞を撮像する為の撮像素子と、前記被検光束と前記参照光束の光路長差を変化させる光路長差変化素子と、前記撮像素子で撮像される前記干渉縞から前記被検光束と前記参照光束の位相差分布を計算する処理系とを有する干渉測定装置において、該位相差分布を該干渉測定装置におけるMTFによって補正する補正手段を有すること。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
被検物を介した光を用いて干渉縞を形成する干渉装置であって、 前記干渉縞から得られる位相差分布を、前記干渉装置のMTFに基づいて補正する補正手段を有することを特徴とする干渉装置。
IPC (4件)：
G01B9/02 ,  G01J9/02 ,  G01M11/00 ,  G01M11/02
FI (4件)：
G01B9/02 ,  G01J9/02 ,  G01M11/00 L ,  G01M11/02 B
Fターム (13件)：
2F064AA09 ,  2F064BB04 ,  2F064DD08 ,  2F064EE02 ,  2F064EE05 ,  2F064EE08 ,  2F064HH03 ,  2F064HH08 ,  2F064JJ01 ,  2F064JJ04 ,  2F064JJ15 ,  2G086FF01 ,  2G086HH06
引用特許：
審査官引用 (4件)
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