特許
J-GLOBAL ID：200903040156054310
干渉装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高梨 幸雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-370728
公開番号（公開出願番号）：特開2004-198382
出願日： 2002年12月20日
公開日（公表日）： 2004年07月15日
要約：
【課題】被検面の面形状や物体のホモジニティ等を高精度に測定することができる干渉装置を得ること。【解決手段】光源手段から射出された光束より、被検物を介した被検光束と参照面を介した参照光束とを形成し、双方を合波し干渉波面を形成する光学手段と、該被検光束と該参照光束の光路長差を変化させる光路長差変化素子と、該干渉波面に基づく干渉縞を撮像する撮像素子と、該撮像素子で撮影される干渉縞から該干渉波面の位相差分布を計算する処理系とを有する干渉装置において、該位相差分布を、補正用サンプルの被検面の凹凸形状を機械的に測定する形状測定装置で得た値と、該干渉装置で該補正用サンプルを測定した値とを用いて求めた補正値で補正する補正手段を有すること。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
被検物を介した光を用いて干渉縞を形成する干渉装置であって、
補正用サンプルの形状と前記補正用サンプルの形状を前記干渉装置で測定した測定値とを用いて求めた補正値に基づいて、前記干渉縞から得られる位相差分布を補正する補正手段を有することを特徴とする干渉装置。
IPC (4件)：
G01B9/02
, G01J9/02
, G01M11/00
, G01M11/02
G01B9/02
, G01J9/02
, G01M11/00 L
, G01M11/02 B
2F064AA09
, 2F064DD01
, 2F064DD08
, 2F064EE01
, 2F064GG00
, 2F064GG22
, 2F064GG52
, 2F064HH03
, 2F064HH08
, 2F064JJ00
, 2F064JJ01
, 2F064JJ15
, 2F064KK04
, 2G086FF01
, 2G086HH06
