特許
J-GLOBAL ID:200903034158259904

ポリメチン系化合物、その製造方法、及びこれを含む近赤外線吸収材料

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 若林 忠
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-296734
公開番号(公開出願番号):特開平10-140022
出願日: 1996年11月08日
公開日(公表日): 1998年05月26日
要約:
【要約】【課題】 750nm〜1000nmの近赤外領域の吸収能に優れており、溶剤に対する溶解性が高く、光安定性が良好であり、近赤外線吸収フィルター、熱線遮断フィルム、光熱変換剤、セキュリティーインク等の近赤外線吸収材料に好適に用いることができる新規なポリメチン系化合物及びその製造方法を提供する。【解決手段】 下記一般式(I)で表わされる新規なポリメチン系化合物及びこれを含有する近赤外線吸収材料。【化1】(式(I)中、R1、R2、R3、R4、R7、R8、R9、R10はアルキル基等を、R5、R6、R11、R12は水素原子等を示し、Z1はClO4-等の酸性残基を示す。)
請求項(抜粋):
下記一般式(I)で表わされるポリメチン系化合物。【化1】(式(I)中、R1、R7はアルキル基、アルコキシアルキル基、アラルキル基を示し、R2、R8はアルキル基、シクロアルキル基、アリール基を示す。R3、R4、R9、R10は水素原子、アルキル基、アルコキシアルキル基、ヒドロキシアルキル基、シクロアルキル基、アリール基を示し、これらがアルキル基である場合、R3とR4及び/又はR9とR10が連結して、結合する窒素原子とともに複素環を形成してもよい。R5、R6、R11、R12は水素原子、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子を示し、Z1は酸性残基を示す。)
IPC (3件):
C09B 23/00 ,  C07D209/14 ,  C09K 3/00 105
FI (3件):
C09B 23/00 L ,  C07D209/14 ,  C09K 3/00 105
引用特許:
出願人引用 (7件)
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