特許
J-GLOBAL ID:200903034197137506

ピュアシリカゼオライトの製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 岩谷 龍
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2007-286783
公開番号(公開出願番号):特開2009-114007
出願日: 2007年11月02日
公開日(公表日): 2009年05月28日
要約:
【課題】 本発明は、簡便に、かつ短時間で、収率良く、ピュアシリカゼオライトを製造し得るピュアシリカゼオライトの製造方法を提供すること目的とする。【解決手段】 ピュアシリカゼオライトの製造方法であって、(1)シリカと水とフッ化水素酸と、粉末の状態で混合された水酸化有機アミンとが含有された、下記組成A を有する湿潤もしくは懸濁原料組成物を調製する工程、及び(2)前記(1)の工程により得られた湿潤もしくは懸濁原料組成物を加圧下に130〜200°Cの温度で12〜30時間加熱処理する行程、を含むことを特徴とするピュアシリカゼオライトの製造方法。 組成A (モル比) :水/シリカ(SiO2)成分= 3.2〜20【選択図】 なし
請求項(抜粋):
ピュアシリカゼオライトの製造方法であって、(1)シリカと水とフッ化水素酸と、粉末の状態で混合された水酸化有機アミンとが含有された、下記組成A を有する湿潤もしくは懸濁原料組成物を調製する工程、及び(2)前記(1)の工程により得られた湿潤もしくは懸濁原料組成物を加圧下に130〜200°Cの温度で12〜30時間加熱処理する工程、を含むことを特徴とするピュアシリカゼオライトの製造方法。 組成A (モル比) :水/シリカ(SiO2)成分= 3.2〜20
IPC (1件):
C01B 37/02
FI (1件):
C01B37/02
Fターム (9件):
4G073AA02 ,  4G073BB42 ,  4G073CZ17 ,  4G073FB11 ,  4G073FC03 ,  4G073FC25 ,  4G073FC27 ,  4G073FC30 ,  4G073GA03
引用特許:
出願人引用 (1件)
  • 米国特許N o. 6,471,941
審査官引用 (7件)
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