特許

J-GLOBAL ID：200903034239566607

プラズマ処理方法及び装置

発明者： 内海 省吾 ,  松井 卓也
出願人/特許権者： 松下電器産業株式会社
代理人 (1件)： 石原 勝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-177684
公開番号（公開出願番号）：特開2001-353440
出願日： 2000年06月14日
公開日（公表日）： 2001年12月25日
要約：

【要約】【課題】 コイル形状の再現性を確保でき、かつ変更が可能で、良好なプラズマ処理条件を容易に設定できるプラズマ処理方法及び装置を提供する。【解決手段】 真空容器内にガスを供給しながら排気し、誘電体からなる天板上に配設したコイル3から真空容器内に電磁波を放射してプラズマを発生させ、基板を処理するプラズマ処理装置において、コイル取付部材12とコイル固定支柱13から成り、コイル形状の再現性を有するコイル3の固定手段を設け、コイル形状を変化させてプラズマ特性との相関を把握し、処理条件に最適なプラズマ特性が得られるようにコイル形状を変更できるようにした。

請求項（抜粋）：

真空容器内にガスを供給しながら排気し、誘電体からなる天板上に配設したコイルから真空容器内に電磁波を放射してプラズマを発生させ、基板を処理するプラズマ処理方法において、コイル形状を変化させてプラズマ特性との相関を把握し、処理条件に最適なプラズマ特性が得られるようにコイル形状を設定することを特徴とするプラズマ処理方法。

IPC (5件)：

B01J 19/08 ,  C23C 16/507 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/3065 ,  H05H 1/46

FI (5件)：

B01J 19/08 H ,  C23C 16/507 ,  H01L 21/205 ,  H05H 1/46 L ,  H01L 21/302 B

Fターム (30件)：

4G075AA24 ,  4G075AA70 ,  4G075BA01 ,  4G075BD14 ,  4G075CA47 ,  4G075CA65 ,  4G075DA01 ,  4G075EB01 ,  4G075EB41 ,  4G075EC13 ,  4G075EC30 ,  4G075FC15 ,  4K030FA04 ,  4K030KA30 ,  4K030KA45 ,  4K030LA18 ,  5F004AA16 ,  5F004BA20 ,  5F004BB13 ,  5F004BB18 ,  5F004BC08 ,  5F004CA09 ,  5F045AA08 ,  5F045BB10 ,  5F045EH03 ,  5F045EH04 ,  5F045EH07 ,  5F045EH08 ,  5F045EH11 ,  5F045EH19

引用特許：

審査官引用 (4件)

• プラズマ処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-060146   出願人：株式会社サムコインターナショナル研究所
• プラズマ処理方法および装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-143366   出願人：松下電器産業株式会社
• プラズマ処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-297994   出願人：松下電器産業株式会社
• プラズマ処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-273141   出願人：東京エレクトロン株式会社